申请/专利权人：科磊股份有限公司

申请日：2020-02-25

公开（公告）日：2022-11-29

公开（公告）号：CN113632136B

主分类号：G06T7/00

分类号：G06T7/00;G06T7/11;G06T5/00;G06T19/20;H01L21/66

优先权：["20190226 US 62/810,759","20200219 US 16/795,553"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.11.29#授权;2022.03.15#实质审查的生效;2021.11.09#公开

摘要：本发明提供用于产生用于对样品执行的过程中的参考图像的方法及系统。一种系统包含经配置以接收由实际系统针对样品产生的输出的虚拟系统，所述样品中的每一者具有形成于其上的相同类型的装置区域。所述虚拟系统经配置以基于由所述实际系统中的至少两者针对所述样品产生的所述输出来识别所述装置区域的缺陷部分且从其中识别所述缺陷部分的所述装置区域消除所述装置区域的所述缺陷部分以借此产生所述装置区域的剩余部分。另外，所述虚拟系统经配置以从针对所述样品中的第一者上的至少一个装置区域及所述样品中的第二者上的至少一个装置区域的所述剩余部分产生的所述输出产生参考图像。

主权项：1.一种经配置以产生用于对样品执行的过程中的参考图像的系统，其包括：虚拟系统，其耦合到多个实际系统以借此接收由所述实际系统针对样品产生的输出，其中所述虚拟系统包括至少计算机系统及存储媒体，其中所述虚拟系统无法使所述样品安置于其内，其中所述样品中的每一者具有形成于其上的相同类型的装置区域，其中由所述多个实际系统针对所述样品产生的所述输出用于所述样品上的相同层，且其中所述虚拟系统经配置以：基于由所述多个实际系统中的至少两者针对所述样品产生的输出来识别所述装置区域的缺陷部分；从其中识别所述缺陷部分的所述装置区域消除所述装置区域的所述缺陷部分以借此产生所述装置区域的剩余部分；及从针对所述样品中的第一者上的所述装置区域中的至少一者及所述样品中的第二者上的所述装置区域中的至少一者的剩余部分产生的输出产生参考图像，其中用于产生所述参考图像的所述输出仅由所述多个实际系统中的一者产生。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 科磊股份有限公司 用于半导体应用的参考图像产生

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