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【发明公布】反射型光掩模坯以及反射型光掩模_凸版光掩模有限公司_202180029533.0 

申请/专利权人:凸版光掩模有限公司

申请日:2021-04-28

公开(公告)日:2022-12-02

公开(公告)号:CN115427889A

主分类号:G03F1/24

分类号:G03F1/24;G03F1/58;C23C14/06

优先权:["20200430 JP 2020-080646","20200630 JP 2020-113230"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2022.12.20#实质审查的生效;2022.12.02#公开

摘要:本发明的目的在于提供对氢自由基的耐性高、且将投影效应抑制至最小限从而提高转印性能的反射型光掩模坯以及反射型光掩模。本实施方式涉及的反射型光掩模坯10具备基板1、反射部7以及低反射部8,低反射部8由吸收层4和最表层5构成,吸收层4包含合计为50原子%以上的选自第1材料群中的1种以上,最表层5包含合计为80原子%以上的选自第2材料群中的至少1种以上,第1材料群为铟、锡、碲、钴、镍、铂、银、铜、锌及铋、及它们的氧化物、氮化物以及氧氮化物,第2材料群为钽、铝、钌、钼、锆、钛、锌及钒、及它们的氧化物、氮化物、氧氮化物、以及铟氧化物。

主权项:1.一种反射型光掩模坯,其是用于制作以极端紫外线作为光源的图案转印用的反射型光掩模的反射型光掩模坯,特征在于,具备:基板、形成在所述基板上并反射入射光的反射部、以及形成在所述反射部上并吸收入射光的低反射部,所述低反射部是由吸收层和最表层构成的至少2层以上的层叠结构体,所述吸收层的至少1层包含合计为50原子%以上的选自第1材料群中的1种以上,所述最表层包含合计为80原子%以上的选自第2材料群中的至少1种以上,所述第1材料群为铟In、锡Sn、碲Te、钴Co、镍Ni、铂Pt、银Ag、铜Cu、锌Zn及铋Bi、及它们的氧化物、氮化物以及氧氮化物,所述第2材料群为钽Ta、铝Al、钌Ru、钼Mo、锆Zr、钛Ti、锌Zn及钒V、及它们的氧化物、氮化物、氧氮化物、以及铟氧化物InxOyy>1.5x。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 凸版光掩模有限公司 反射型光掩模坯以及反射型光掩模

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