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【发明公布】一种DEM影像的干扰物剔除及空洞填补方法_中国电力工程顾问集团华北电力设计院有限公司_202211034422.1 

申请/专利权人:中国电力工程顾问集团华北电力设计院有限公司

申请日:2022-08-26

公开(公告)日:2022-12-02

公开(公告)号:CN115423974A

主分类号:G06T17/20

分类号:G06T17/20;G06T17/05;G06T7/13;G06V10/764;G06V10/774

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2022.12.20#实质审查的生效;2022.12.02#公开

摘要:本发明提供一种DEM影像的干扰物剔除及空洞填补方法,通过对DEM影像进行标注处理,并利用该标注影像对原影像进行掩膜处理,并对掩膜后的影像空洞通过划定边界并通过线性插值方法确定内插点,进一步通过该内插点构建Delaunay三角网,同时确定内插点的像素值,并对构建的三角网进行递归赋值,完成对影像空洞的填补。通过本方法,首次在植被等地物区域消除领域中引进空洞填补算法,实现地物区域高程的修正,最终构建出高精度数字高程模型DEM。

主权项:1.一种DEM影像的干扰物剔除及空洞填补方法,其特征在于,通过以下步骤对DEM影像中的干扰物剔除并进行空洞填补:步骤一:通过对DEM影像进行干扰物的标注处理,并根据标注后的影像进行掩膜处理得到具有空洞的DEM影像;步骤二:提取步骤一中得到的DEM影像中空洞所在区域的最小矩形边界,并适当外扩,得到索引文件;步骤三:以步骤二中外扩后的矩形区域为边界,通过矩形区域内的已知点按照线性插值方法确定内插点位置,并通过确定的内插点构建满足Delaunay准则的Delaunay三角网曲面;步骤四:在步骤三中构建Delaunay三角网曲面的同时,通过矩形区域内的已知点的像素值按照线性插值方法确定内插点的像素值;步骤五:以步骤三和步骤四中得到的插值点的位置和像素值,采用递归算法为整个Delaunay三角网曲面赋值,得到填补后的DEM影像。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国电力工程顾问集团华北电力设计院有限公司 一种DEM影像的干扰物剔除及空洞填补方法

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