申请/专利权人：长鑫存储技术有限公司

申请日：2022-08-29

公开（公告）日：2022-12-02

公开（公告）号：CN115424956A

主分类号：H01L21/67

分类号：H01L21/67;H01L21/306;B08B1/00;B08B6/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.12.20#实质审查的生效;2022.12.02#公开

摘要：本申请提供一种半导体制备装置，涉及半导体制造技术领域，用于解决晶圆的良率低的技术问题，该半导体制备装置包括机台和至少一组清洁组件，至少一组清洁组件设置在机台上且位于目标器件的至少一侧；清洁组件包括刷头和静电吸附件，刷头设置在机台上且可绕自身轴线旋转，刷头被配置为清洁目标器件，静电吸附件设置在刷头背离目标器件的一侧，静电吸附件被配置为吸附刷头上的静电颗粒。本申请能够对刷头本身进行清洁，以提高刷头对目标器件表面的清洁效果，从而提高目标器件的良率。

主权项：1.一种半导体制备装置，其特征在于，包括：机台；至少一组清洁组件，设置在所述机台上且位于目标器件的至少一侧；所述清洁组件包括刷头和静电吸附件，所述刷头设置在所述机台上且可绕自身轴线旋转，所述刷头被配置为清洁目标器件；所述静电吸附件设置在所述刷头背离所述目标器件的一侧，所述静电吸附件被配置为吸附所述刷头上的静电颗粒。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 长鑫存储技术有限公司 半导体制备装置

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