申请/专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

申请日：2022-09-30

公开（公告）日：2022-12-02

公开（公告）号：CN115421391A

主分类号：G05B13/04

分类号：G05B13/04

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.12.20#实质审查的生效;2022.12.02#公开

摘要：本发明提供一种光电跟踪转台的反步滑模控制方法，包括以下步骤：S1、建立光电跟踪转台的动力学模型；S2、建立转轴的反步滑模控制器；S21、建立每个转轴的动力学方程；S22、依据Stribeck摩擦模型，建立每个转轴的摩擦力矩方程；S23、设计每个转轴的反步滑模控制器；S3、将转轴的的反步滑模控制器嵌入光电跟踪转台的控制系统。由于反步控制在解决跟踪问题和干扰抑制问题具有良好效果，滑模控制具有响应快速、扰动不敏感以及物理实现简单等优点，本发明将反步控制和滑模控制进行结合，提出了一种光电跟踪转台的反步滑模控制方法，有效地提高了光电跟踪转台的稳态跟踪精度，响应速度以及抗干扰能力。

主权项：1.一种光电跟踪转台的反步滑模控制方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、建立光电跟踪转台的动力学模型；S2、依据所述光电跟踪转台的动力学模型，建立用于控制转轴的反步滑模控制器；S21、建立每个转轴的动力学方程；S22、依据Stribeck摩擦模型，建立每个转轴的摩擦力矩方程；S23、结合摩擦力矩方程和所述转轴的动力学方程，设计每个转轴的反步滑模控制器；S3、将转轴的反步滑模控制器嵌入光电跟踪转台的控制系统，用于对转轴进行驱动控制。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 光电跟踪转台的反步滑模控制方法

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