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【发明授权】正型感光性聚硅氧烷组合物_奇美实业股份有限公司_201810239512.1 

申请/专利权人:奇美实业股份有限公司

申请日:2018-03-22

公开(公告)日:2022-12-02

公开(公告)号:CN108693710B

主分类号:G03F7/039

分类号:G03F7/039;G03F7/09

优先权:["20170331 TW 106110959"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.12.02#授权;2020.02.07#实质审查的生效;2018.10.23#公开

摘要:本发明有关正型感光性聚硅氧烷组合物,用于形成TFT基板的平坦化膜或层间绝缘膜,或光波导路芯材或包覆材的保护膜,其具有耐化学性佳的特性。该正型感光性硅氧烷组合物包含聚硅氧烷A、邻萘醌二叠氮磺酸酯B、溶剂C及硅烷化合物D。

主权项:1.一种正型感光性聚硅氧烷组合物,其包含:聚硅氧烷A;邻萘醌二叠氮磺酸酯B;溶剂C;及硅烷化合物D;其中,该硅烷化合物D具式D-1所示的结构: 式D-1中:R1表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基,或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基;R2各独立地表示未经取代或经取代的碳数1至20的烷基、未经取代或经取代的碳数6至10的芳基、未经取代或经取代的碳数7至10的芳烷基、未经取代或经取代的碳数2至10的烯基,或未经取代或经取代的碳数1至20的有机氧基;R3表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基,或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基;n为1至3的整数;且m为1至3的整数;其中,基于该聚硅氧烷A的使用量为100重量份,该硅烷化合物D的使用量为1至15重量份。

全文数据:正型感光性聚硅氧烷组合物技术领域[0001]本发明有关于一种适用于液晶显示组件、有机电激发光显示组件等的TFT基板的平坦化膜或层间绝缘膜,或光波导路的芯材或包覆材的保护膜的正型感光性硅氧烷组合物,及由其形成的薄膜、及具有该薄膜的装置。特别是提供一种耐化学性佳的正型感光性聚硅氧烷组合物、其所形成的薄膜,以及具有薄膜的装置。背景技术[0002]近年来,在半导体工业、液晶显示器或有机电激发光显示器等领域中,随着尺寸的日益缩小化,对于微影工艺中所需的图案的微细化亦要求日高。为了达到微细化的图案,一般是通过具有高解析及高感度的正型感光性材料经曝光及显影而形成,其中,以聚硅氧烷聚合物为成分的正型感光性材料渐成为业界使用的主流。[0003]在液晶显示器或有机电激发光显示器中,层状配线间通常会配置层间绝缘膜以作为绝缘。正型感光性材料由于获得图案形状的必要工序数较少,同时,所获得的绝缘膜平坦度佳,故被广泛使用于形成层间绝缘膜的材料。[0004]例如,用于液晶显示器的层间绝缘膜,其形成微细配线的接触孔的图案是必要的。而实际上,负型感光性组合物形成的接触孔,达可使用水平的孔径十分困难,因此,业界广泛使用正型感光性组合物,以形成液晶显示组件的层间绝缘膜如日本特开2001-354822号所示)。[0005]—般作为形成层间绝缘膜的正型感光性组合物的主要成分为丙烯酸类树脂,但使用硅氧烷类材料的感光性组合物,其耐热性及透明性皆较使用丙烯酸类树脂材料的感光性组合物佳如日本特开2000-1648号所示)。[0006]然而,硅烷化合物或聚硅氧烷的聚硅氧烷类材料,因其本身易与同类或不同类化合物产生水解缩合反应。在制备正型感光性组合物时,这些副反应的发生会导致该正型感光性组合物的保存稳定性变差,其产品的寿命亦会缩短。[0007]为抑制上述的缩合反应,业界已开发通过控制聚硅氧烷的分子量以及分枝结构以抑制缩合反应。日本特开2003-163209号揭示通过酸催化剂、金属螯合物和碱催化剂的作用可得到不同分子量的聚硅氧烷以控制该聚硅氧烷的结构。然而,上述公报虽然公开了聚硅氧烷的各种分子量,但其并未考虑到该聚硅氧烷的感光特性;除介电常数外,也未考虑到层间绝缘膜的各种特性。[0008]在此情况下,日本特开2011-123450号揭示一种正型感光性聚硅氧烷组合物,其具有优异的感光性、保存安定性及耐熔体流动性,然而,该正型感光性聚硅氧烷组合物的耐化学性不佳,故无法令业界所接受。[0009]因此,如何同时达到目前业界对耐化学性的要求,为本发明所属技术领域中努力研究的目标。发明内容[0010]本发明利用提供特殊硅烷化合物的成分,而得到耐化学性佳的正型感光性聚硅氧烷组合物。[0011]因此,本发明提供一种正型感光性聚硅氧烷组合物,其包含:[0012]聚娃氧烷㈧;[0013]邻萘醌二叠氮磺酸酯⑻;[0014]溶剂⑹;及[0015]硅烷化合物⑼;[0016]其中,该硅烷化合物⑼具式D-I所示的结构:[0018]式D-I中:[0019]R1表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基,或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基;[0020]R2各独立地表示未经取代或经取代的碳数1至20的烷基、未经取代或经取代的碳数6至10的芳基、未经取代或经取代的碳数7至10的芳烷基、未经取代或经取代的碳数2至10的烯基,或未经取代或经取代的碳数1至20的有机氧基;[0021]R3表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基,或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基;[0022]n为1至3的整数;且[0023]m为1至3的整数。[0024]本发明亦提供一种于基板上形成薄膜的方法,其包含使用前述的正型感光性聚硅氧烷组合物施予该基板上。[0025]本发明又提供一种基板上的薄膜,其是由前述的方法所制得。[0026]本发明又提供一种液晶显示组件或有机电激发光显示器中TFT基板的平坦化膜或层间绝缘膜,或光波导路芯材或包覆材的保护膜,其是由前述的方法所制得。[0027]本发明再提供一种装置,其包含前述的薄膜。[0028]本发明再提供一种装置,其包含前述的液晶显示组件或有机电激发光显示器中TFT基板的平坦化膜或层间绝缘膜,或光波导路芯材或包覆材的保护膜具体实施方式[0029]因此,本发明提供一种正型感光性聚硅氧烷组合物,其包含:[0030]聚硅氧烷㈧;[0031]邻萘醌二叠氮磺酸酯⑻;[0032]溶剂⑹;及[0033]硅烷化合物⑼;[0034]其中,该硅烷化合物⑼具式D-I所示的结构:[0036]式D-I中:[0037]R1表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基,或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基;[0038]R2各独立地表示未经取代或经取代的碳数1至20的烷基、未经取代或经取代的碳数6至10的芳基、未经取代或经取代的碳数7至10的芳烷基、未经取代或经取代的碳数2至10的烯基,或未经取代或经取代的碳数1至20的有机氧基;[0039]R3表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基,或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基;[0040]!!为1至3的整数;且[0041]m为1至3的整数。[0042]以下将详细说明用于本发明的正型感光性聚硅氧烷组合物的各个成分。[0043]在此说明的是,以下是以(甲基丙烯酸表示丙烯酸及或甲基丙烯酸,并以(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯及或甲基丙烯酸酯;同样地,以(甲基)丙烯酰基表示丙烯酰基及或甲基丙烯酰基。[0044]根据本发明的聚硅氧烷A的种类并没有特别限制,只要可达到本发明的目的即可。聚娃氧烧A可使用娃烧单体silanemonomer进行聚缩合(即水解hydrolysis及部分缩合来合成,或是使用硅烷单体及其他可聚合的化合物进行聚缩合来合成。[0045]该硅烷单体包括硅烷单体a-Ι及硅烷单体a-2;其他可聚合的化合物包含硅氧烷预聚物a-3、二氧化硅粒子a-4,或其组合。以下,进一步说明各个成分以及聚缩合的反应步骤与条件。[0046]该硅烷单体a-Ι为由式I-I表示的化合物:SiRawORb4-w[0047]式I-I[0048]式(I-I中,Ra各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为6至15的芳香基、含有酸酐基的碳数为1至10的烷基、含有环氧基的碳数为1至10的烷基或含有环氧基的烷氧基,至少一个Ra表示含有酸酐基的碳数为1至10的烷基、含有环氧基的碳数为1至10的烷基或含有环氧基的烷氧基;[0049]Rb各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基;及[0050]w表示1至3的整数。[0051]更详细而言,当式(I-I中的Ra表示碳数为1至10的烷基时,具体而言,1^例如是甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、叔丁基、正己基或正癸基。Ra也可以是烷基上具有其他取代基的烷基,具体而言,Ra例如是三氟甲基、3,3,3_三氟丙基、3-胺丙基、3-巯丙基或3-异氰酸丙基。[0052]当式(I-I中的Ra表示碳数为2至10的烯基时,具体而言,Ra例如是乙烯基。1^也可以是烯基上具有其他取代基的烯基,具体而言,Ra例如是3-丙烯酰氧基丙基或3-甲基丙烯酰氧基丙基。[0053]当式(I-I中的Ra表示碳数为6至15的芳香基时,具体而言,Ra例如是苯基、甲苯基tolyl或萘基naphthyl。把也可以是芳香基上具有其他取代基的芳香基,具体而言,把例如是对-轻基苯基(〇-hydroxyphenyl、1-对-轻基苯基)乙基(I-o-hydroxyphenylethyl、2_对-轻基苯基)乙基2-o-hydroxyphenylethyl或4-轻基-5-对-轻基苯基羰氧基)戊基(4_hydroxy-5-p-hydroxyphenylcarbonyloxypentyl〇[0054]此外,式(I-I中的1^表示含有酸酐基的烷基,其中烷基较佳为碳数为1至10的烷基。具体而言,所述含有酸酐基的烷基例如是式1-1-1所示的乙基丁二酸酐、式1-1-2所示的丙基丁二酸酐或式(1-1-3所示的丙基戊二酸酐。值得一提的是,酸酐基是由二羧酸dicarboxylicacid经分子内脱水(intramoleculardehydration所形成的基团,其中二羧酸例如是丁二酸或戊二酸。[0056]再者,式(I-I中的1^表示含有环氧基的烷基,其中烷基较佳为碳数为1至10的烷基。具体而言,所述含有环氧基的烧基例如是环氧丙烧基戊基oxetanylpentyl或2-3,4-环氧环己基)乙基(2-3,4-epoxycyclohexylethyl。值得一提的是,环氧基是由二元醇diο1经分子内脱水所形成的基团,其中二元醇例如是丙二醇、丁二醇或戊二醇。[0057]式(I-I中的Ra表示含有环氧基的烷氧基,其中烷氧基较佳为碳数为1至10的烷氧基。具体而言,所述含有环氧基的烧氧基例如是环氧丙氧基丙基glycidoxypropyl或2-环氧丙烧基丁氧基(2-oxetanylbutoxy。[0058]另外,当式(I-I的0表示碳数为1至6的烷基时,具体而言,Rb例如是甲基、乙基、正丙基、异丙基或正丁基。当式(I-ι中的Rb表示碳数为1至6的酰基时,具体而言,妒例如是乙酰基。当式I-I中的Rb表示碳数为6至15的芳香基时,具体而言,Rb例如是苯基。[0059]在式(I-I中,w表示1至3的整数。当w表示2或3时,多个Ra可为相同或不同;当w表示1或2时,多个Rb可为相同或不同。[0060]该硅烷单体(a-ι的具体例包括:3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(3-glycidoxypropyltrimethoxysilane,简称GPTMS、3_环氧丙氧基丙基三乙氧基娃烧(3-glycidoxypropyltriethoxysilane、2_3,4_环氧环己基)乙基三甲氧基娃烧(2_3,4_epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane、2_环氧丙烧基丁氧基丙基三苯氧基娃烧2-oxetanylbutoxypropyltriphenoxysilane、由东亚合成所制造的市售品:2_环氧丙烧基丁氧基丙基三甲氧基娃烧(2-oxetanylbutoxypropyltrimethoxysilane,商品名TMSOX-D、2_环氧丙烧基丁氧基丙基三乙氧基娃烧(2-oxetanylbutoxypropyltriethoxysilane,商品名TESOX-D、3-三苯氧基硅基)丙基丁二酸酐、由信越化学所制造的市售品:3-三甲氧基硅基)丙基丁二酸酐(商品名X-12-967、由WACKER公司所制造的市售品:3-三乙氧基硅基丙基丁二酸酐商品名GF-20、3-三甲氧基硅基丙基戊二酸酐简称TMSG、3-三乙氧基硅基丙基戊二酸酐、3-三苯氧基硅基丙基戊二酸酐、二异丙氧基-二2-环氧丙烷基丁氧基丙基)娃烧(diisopropoxy-di2-oxetanylbutoxypropylsilane,简称DIDOS、二3-环氧丙烧基戊基)二甲氧基娃烧(di3-oxetanylpentyldimethoxysilane、(二正丁氧基硅基二丙基丁二酸酐)、(二甲氧基硅基二(乙基丁二酸酐)、3-环氧丙氧基丙基二甲基甲氧基娃烧(3-glycidoxypropyldimethylmethoxysilane、3_环氧丙氧基丙基二甲基乙氧基娃烧(3-glycidoxypropyldimethylethoxysilane、二(2_环氧丙烧基丁氧基戊基)-2_环氧丙烧基戊基乙氧基娃烧(di2-oxetanylbutoxypentyl-2-oxetanylpentylethoxysilane、三(2-环氧丙烧基戊基)甲氧基娃烧(tri2_oxetanylpentylmethoxysilane、苯氧基硅基三丙基丁二酸酐)、(甲基甲氧基硅基)二(乙基丁二酸酐),或上述化合物的组合。[0061]前述硅烷单体a-Ι可单独使用或组合多种来使用。[0062]该硅烷单体a-Ι的具体例较佳为包括3-三乙氧基硅基丙基丁二酸酐、3-三甲氧基硅基丙基丁二酸酐、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-三甲氧基硅基丙基戊二酸酐、(二甲氧基硅基)二(乙基丁二酸酐)、2_环氧丙烷基丁氧基丙基三甲氧基硅烷、2-3,4_环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、2-环氧丙烷基丁氧基丙基三乙氧基硅烷或上述化合物的组合。[0063]于该聚硅氧烷㈧的聚缩合反应时,若使用式(I-I所示的硅烷单体a-Ι,则可进一步改善该正型感光性聚硅氧烷组合物的耐化学性。[0064]该硅烷单体a-2为由式1-2表示的化合物:[0065]SiRcuORd4-u式(1-2[0066]式(1-2中,Re各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基或碳数为6至15的芳香基;Rd各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基;及[0067]u表示0至3的整数。[0068]更详细而言,当式(1-2中的Re表示碳数为1至10的烷基时,具体而言,Re例如是甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、叔丁基、正己基或正癸基。Re也可以是烷基上具有其他取代基的烷基,具体而言,R。例如是三氟甲基、3,3,3_三氟丙基、3-胺丙基、3-巯丙基或3-异氰酸丙基。[0069]当式(1-2中的Re表示碳数为2至10的烯基时,具体而言,Re例如是乙烯基。1^也可以是烯基上具有其他取代基的烯基,具体而言,Re例如是3-丙烯酰氧基丙基或3-甲基丙烯酰氧基丙基。[0070]当式(1-2中的Re表示碳数为6至15的芳香基时,具体而言,Re例如是苯基、甲苯基tolyl或萘基naphthyl。1^也可以是芳香基上具有其他取代基的芳香基,具体而言,1^例如是对_轻基苯基(〇_hydroxyphenyl、1-对-轻基苯基)乙基(I-o-hydroxyphenylethyl、2_对-轻基苯基)乙基2-o-hydroxyphenylethyl或4-轻基-5-对-轻基苯基羰氧基)戊基(4-hydroxy_5-p-hydroxyphenylcarbonyloxypentyl〇[0071]另外,当式1-2的#表示碳数为1至6的烷基时,具体而言,Rd例如是甲基、乙基、正丙基、异丙基或正丁基。当式(1-2中的Rd表示碳数为1至6的酰基时,具体而言,#例如是乙酰基。当式1-2中的Rd表示碳数为6至15的芳香基时,具体而言,Rd例如是苯基。[0072]在式(1-2中,u为0至3的整数。当u表示2或3时,多个Re可为相同或不同;当u表示0、1或2时,多个Rd可为相同或不同。[0073]在式(1-2中,当U=O时,表示硅烷单体为四官能性硅烷单体亦即具有四个可水解基团的娃焼单体);当u=l时,表不娃焼单体为二官能性娃焼单体亦即具有二个可水解基团的硅烷单体当ii=2时,表示硅烷单体为二官能性硅烷单体亦即具有二个可水解基团的硅烷单体并且当ii=3时,则表示硅烷单体为单官能性硅烷单体亦即具有一个可水解基团的硅烷单体)。值得一提的是,所述可水解基团是指可以进行水解反应并且与硅键结的基团,举例来说,可水解基团例如是焼氧基、酰氧基acyIoxygroup或苯氧基phenoxygroup〇[0074]由式(1-2表示的硅烷单体的具体例包括但不限于:(1四官能性硅烷单体:四甲氧基娃焼(tetramethoxysilane、四乙氧基娃焼(tetraethoxysilane、四乙酰氧基娃焼tetraacetoxysilane或四苯氧基娃焼等(tetraphenoxysilane;2三官能性娃焼单体:甲基三甲氧基娃焼(methyltrimethoxysilane,简称MTMS、甲基三乙氧基娃焼methyItriethoxysiIane、甲基三异丙氧基娃焼methyltriisopropoxysilane、甲基三正丁氧基娃焼(methyltri-n-butoxysilane、乙基三甲氧基娃焼ethyltrimethoxysilane、乙基三乙氧基娃焼(ethyltriethoxysilane、乙基三异丙氧基石圭焼(ethyltriisopropoxysilane、乙基三正丁氧基石圭焼(ethyltri-n-butoxysilane、正丙基三甲氧基娃焼(n-propyltrimethoxysilane、正丙基三乙氧基娃焼(n-propyltriethoxysilane、正丁基三甲氧基石圭焼n-butyltrimethoxysilane、正丁基三乙氧基石圭焼n-butyltriethoxysilane、正己基三甲氧基石圭焼n-hexyltrimethoxysilane、正己基三乙氧基娃焼(n-hexyltriethoxysilane、癸基三甲氧基娃焼decyltrimethoxysilane、乙稀基三甲氧基石圭焼vinyltrimethoxysilane、乙稀基三乙氧基娃焼(vinyltriethoxysilane、苯基三甲氧基娃焼phenyltrimethoxysilane,PTMS、苯基三乙氧基娃焼(phenyltriethoxysilane,PTES、对-轻基苯基三甲氧基娃焼(卩_hydroxyphenyltrimethoxysilane、1_对-轻基苯基)乙基三甲氧基娃焼(1_卩_hydroxyphenylethyltrimethoxysilane、2_对-轻基苯基)乙基三甲氧基娃焼(2_p-hydroxyphenylethyltrimethoxysilane、4_轻基-5-对-轻基苯基羰氧基戊基三甲氧基石圭焼(4_hydroxy-5-p-hydroxyphenylcarbonyloxypentyltrimethoxysilane、三氣甲基三甲氧基娃焼(trifluoromethyltrimethoxysilane、三氟甲基三乙氧基娃焼trifluoromethyltriethoxysilane、3,3,3_三氣丙基三甲氧基娃烧(3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane、3_胺丙基三甲氧基娃烧(3-aminopropyltrimethoxysilane、3_胺丙基三乙氧基石圭烧(3-aminopropyItriethoxysilane、3-疏丙基三甲氧基娃烧、3-丙稀酰氧基丙基三甲氧基娃烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷或3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷;(3二官能性娃烧单体:二甲基二甲氧基娃烧dimethyldimethoxysilane,简称DMDMS、二甲基二乙氧基娃烧(dimethyldiethoxysilane、二甲基二乙酉先氧基娃烧dimethyldiacetyloxysilane、二正丁基二甲氧基石圭烧(di-n-butyldimethoxysilane或二苯基二甲氧基娃烧diphenyldimethoxysilane;或⑷单官能性娃烧单体:三甲基甲氧基石圭烧(trimethylmethoxysilane或三正丁基乙氧基石圭烧(tri-n-butylethoxysilane等。[0075]所述的各种硅烷单体可单独使用或组合多种来使用。[0076]该硅氧烷预聚物a-3是由式1-3所示的化合物。[0078]式(1-3中,1^、妒、1^及妒各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至6的烯基或碳数为6至15的芳香基,其中该烷基、烯基及芳香基中任一者可选择地含有取代基;R1与P各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基,其中该烷基、酰基及芳香基中任一者可选择地含有取代基;及S表示1至1000的整数。[0079]更详细而言,当式1-3中的1^、妒、把及妒各自独立表示碳数为1至10的烷基时,具体而言,1^、足、把及妒例如各自独立为甲基、乙基或正丙基。当式(1-3中的1^、1^、把及妒各自独立表示碳数为2至10的烯基时,具体而言,1^、把及妒例如各自独立为乙烯基、丙烯酰氧基丙基或甲基丙烯酰氧基丙基。当式(1-3中的Re、Rf、把及妒各自独立表示碳数为6至15的芳香基时,具体而言,Re、RfAiiSRh例如各自独立为苯基、甲苯基或萘基。所述烷基、烯基及芳香基中任一者可以具有其他取代基。[0080]另外,当式(1-3的妒与#各自独立表示碳数为1至6的烷基时,具体而言,1^与#例如各自独立为甲基、乙基、正丙基、异丙基或正丁基。当式(1-3的R1与P各自独立表示碳数为1至6的酰基时,具体而言,R1与P例如是乙酰基。当式(1-3中的R1与P各自独立表示碳数为6至15的芳香基时,具体而言,R1与把例如是苯基。其中,上述烷基、酰基及芳香基中任一者可选择地具有取代基。[0081]式(1-3中,S可为1至1000的整数,较佳为3至300的整数,更佳为5至200的整数。当S为2至1000的整数时,Re各自为相同或不同的基团,且Rf各自为相同或不同的基团。[0082]该硅氧烷预聚物a-3的具体例包括但不限于:1,1,3,3_四甲基-1,3_二甲氧基二硅氧烷、1,1,3,3-四甲基-1,3-二乙氧基二硅氧烷、1,1,3,3-四乙基-1,3-二乙氧基二硅氧烷或者由吉来斯特(Gelest公司制造的末端为硅烷醇的聚硅氧烷(SiIanolterminatedpolydimethylsiloxane的市售品(商品名如DMS-S12分子量400至700、DMS_S15分子量1500至2000、DMS-S21分子量4200、DMS-S27分子量18000、DMS-S31分子量26000、DMS-S32分子量36000、DMS-S33分子量43500、DMS-S35分子量49000、DMS-S38分子量58000、DMS-S42分子量77000或PDS-9931分子量1000至1400。[0083]该硅氧烷预聚物a-3可单独使用或组合多种来使用。[0084]该二氧化硅粒子(a-4的平均粒径并无特别的限制。平均粒径的范围为2nm至250nm,较佳为5nm至200nm,且更佳为IOnm至IOOnm。[0085]该二氧化硅粒子a-4的具体例包括但不限于:由触媒化成公司所制造的市售品,商品名如OSCAR1132粒径12nm;分散剂为甲醇)、0SCAR1332粒径12nm;分散剂为正丙醇)、0SCAR105粒径60nm;分散剂为γ-丁内酯)、0SCAR106粒径120nm;分散剂为二丙酮醇等、由扶桑化学公司所制造的市售品,商品名如QuartronPL-1-1PA粒径13nm;分散剂为异丙酮)、QuartronPL-1-T0L粒径13nm;分散剂为甲苯)、QuartronPL-2L-PGME粒径18nm;分散剂为丙二醇单甲醚或QuartronPL-2L_MEK粒径18nm;分散剂为甲乙酮等、或由日产化学公司所制造的市售品,商品名如IPA-ST粒径12nm;分散剂为异丙醇)、EG-ST粒径12nm;分散剂为乙二醇)、IPA-ST-L粒径45nm;分散剂为异丙醇)或IPA-ST-ZL粒径IOOnm;分散剂为异丙醇)。二氧化硅粒子可单独使用或组合多种来使用。[0086]该聚硅氧烷A可使用硅烷单体进行聚缩合来合成,或是使用硅烷单体及其他可聚合用的化合物进行聚缩合来合成。一般而言,上述聚缩合反应是以下列步骤来进行:在硅烷单体中添加溶剂、水,或可选择性地添加催化剂catalyst;以及于50°C至150°C下加热搅拌0.5小时至120小时,且可进一步通过蒸馏distillation除去副产物醇类、水等)。[0087]聚缩合反应所使用的溶剂并没有特别限制,且所述溶剂可与本发明的正型感光性聚硅氧烷组合物所包括的溶剂C相同或不同。基于硅烷单体a-Ι及硅烷单体a-2的合计量为1摩尔,溶剂的使用量较佳为20克至1000克;更佳为30克至800克;进而更佳为50克至600克。[0088]基于硅烷单体的可水解基团为1摩尔,聚缩合反应所使用的水(亦即用于水解的7J0的使用量较佳为1〇克至500克;更佳为15克至400克;进而更佳为20克至300克。[0089]聚缩合反应所使用的催化剂没有特别的限制,且较佳为选自酸催化剂或碱催化剂。酸催化剂的具体例包括但不限于盐酸、硝酸、硫酸、氢氟酸hydrofluoricacid、草酸、磷酸、醋酸、三氟醋酸、蚁酸、多元羧酸或其酸酐或离子交换树脂等。碱催化剂的具体例包括但不限于二乙胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺、三戊胺、三己胺、三庚胺、三辛胺、二乙醇胺、三乙醇胺、氢氧化钠、氢氧化钾、含有胺基的具有烷氧基的硅烷或离子交换树脂等。[0090]基于硅烷单体a-Ι及硅烷单体a-2的合计量为1摩尔,催化剂的使用量较佳为0.05克至5克;更佳为0.07克至4克;进而更佳为0.1克至3克。[0091]基于安定性stability的观点,该聚硅氧烷A较佳为不含副产物如醇类或水)及催化剂。因此,可选择性地将聚缩合反应后的反应混合物进行纯化purification来获得该聚娃氧烧(A。纯化的方法无特别限制,较佳为可使用疏水性溶剂(hydrophobicsolvent稀释反应混合物。接着,将疏水性溶剂与反应混合物转移至分液漏斗(separationfunnel。然后,以水洗涤有机层数回,再以旋转蒸发器rotaryevaporator浓缩有机层,以除去醇类或水。另外,可使用离子交换树脂除去催化剂。[0092]该聚硅氧烷㈧可并用其他碱可溶性树脂。所述其他碱可溶性树脂的种类并没有特别限制,可包括但不限于含羧酸基或羟基的树脂。其他碱可溶性树脂的具体例包括:丙烯酸Acrylic系树脂、莽(fluorene系树脂、胺基甲酸脂(urethane系树脂或酸醛清漆novolac型树脂。[0093]所述丙烯酸系树脂较佳由含一个或一个以上的不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物及或其他不饱和化合物在适当的聚合起始剂存在下于溶剂中所共聚合而得。[0094]所述不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物的具体例包括丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸、2-氯丙烯酸、乙基丙烯酸、肉桂酸、2-丙烯酰乙氧基丁二酸酯、2-甲基丙烯酰乙氧基丁二酸酯或2-异丁烯酰乙氧基丁二酸酯等的不饱和一元羧酸类;马来酸、马来酸酐、富马酸、衣康酸、衣康酸酐、柠康酸或柠康酸酐等、不饱和二元羧酸酐类、三价以上的不饱和多元羧酸酐类;较佳地,该不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物为丙烯酸、甲基丙烯酸、2-丙烯酰乙氧基丁二酸酯、2-甲基丙烯酰乙氧基丁二酸酯或2-异丁烯酰乙氧基丁二酸酯。上述含一个或一个以上不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物可单独使用或组合多种来使用,以提高颜料分散性、增进显影速度并减少残渣发生。[0095]所述其他不饱和化合物的具体例包括:苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、对氯苯乙烯、甲氧基苯乙烯等的芳香族乙烯基化合物;N-苯基马来酰亚胺、N-邻-羟基苯基马来酰亚胺、N-间-羟基苯基马来酰亚胺、N-对-羟基苯基马来酰亚胺、N-邻-甲基苯基马来酰亚胺、N-间-甲基苯基马来酰亚胺、N-对-甲基苯基马来酰亚胺、N-邻-甲氧基苯基马来酰亚胺、N-间-甲氧基苯基马来酰亚胺、N-对-甲氧基苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺等马来酰亚胺类;丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸第叔丁酯、丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸2-羟基丙酯、甲基丙烯酸2-羟基丙酯、丙烯酸3-羟基丙酯、甲基丙烯酸3-羟基丙酯、丙烯酸2-羟基丁酯、甲基丙烯酸2-羟基丁酯、丙烯酸3-羟基丁酯、甲基丙烯酸3-羟基丁酯、丙烯酸4-羟基丁酯、甲基丙烯酸4-羟基丁酯、丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸烯丙酯、丙烯酸苯甲酯、甲基丙烯酸苯甲酯BzMA、丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸苯酯、丙烯酸三乙二醇甲氧酯、甲基丙烯酸三乙二醇甲氧酯、甲基丙烯酸十二烷基酯、甲基丙烯酸十四烷基酯、甲基丙烯酸十六烷基酯、甲基丙烯酸十八烷基酯、甲基丙烯酸二十烷基酯、甲基丙烯酸二十二烷基酯、丙烯酸双环戊烯基氧化乙酯dieyelopentenyIoxyethylacrylate;DCP0A等的不饱和竣酸酯类;丙稀酸N,Ν_二甲基胺基乙酯、甲基丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、丙烯酸N,N-二乙基胺基丙酯、甲基丙烯酸N,N-二甲基胺基丙酯、丙烯酸N,N-二丁基胺基丙酯、甲基丙烯酸N-异丁基胺基乙酯;丙烯酸环氧丙基酯、甲基丙烯酸环氧丙基酯等不饱和羧酸环氧丙基酯类;乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯等的羧酸乙烯酯类;乙烯基甲醚、乙烯基乙醚、烯丙基环氧丙基醚、甲代烯丙基环氧丙基醚等不饱和醚类;丙烯腈、甲基丙烯腈、2-氯丙烯腈、氰化亚乙烯等的氰化乙烯基化合物;丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、2-氯丙烯酰胺、N-羟乙基丙烯酰胺、N-羟乙基甲基丙烯酰胺等的不饱和酰胺;1,3-丁二烯、异戊烯、氯化丁二烯等的脂肪族共辄二烯类。[0096]所述弗系树脂的具体例包括V259ME、V259MEGTS或V500MEGT新日铁化学制),所述弗系树脂可单独使用或组合多种来使用。[0097]所述胺基甲酸脂系树脂的具体例包括UN-904、UN-952、UN-333或UN1255根上工业株式会社制),所述胺基甲酸脂系树脂可单独使用或组合多种来使用。[0098]所述酚醛清漆型树脂的具体例包括EP4020G、EP4080G、TR40B45G或EP30B50旭有机材工业株式会社制),所述酚醛清漆型树脂可单独使用或组合多种来使用。[0099]该聚硅氧烷⑻的重量平均分子量为5000至60000,较佳为7000至55000,更佳为9000至50000。[0100]根据本发明的邻萘醌二叠氮磺酸酯B的种类没有特别的限制,可使用一般所使用的邻萘醌二叠氮磺酸酯,只要可达到本发明所诉求的目的即可。所述邻萘醌二叠氮磺酸酯⑻可为完全酯化completelyesterify或部分酯化partiallyesterify的酯类化合物(ester-basedcompound。[0101]该邻萘醌二叠氮磺酸酯(B较佳为由邻萘醌二叠氮磺酸(〇_naphthoquinonediazidesulfonicacid或其盐类与轻基化合物反应来制备。邻萘醌二叠氮磺酸酯(B更佳为由邻萘醌二叠氮磺酸或其盐类与多元轻基化合物(polyhydroxycompound反应来制备。[0102]该邻萘醌二叠氮磺酸⑻的具体例包括但不限于邻萘醌二叠氮-4-磺酸、邻萘醌二叠氮-5-磺酸或邻萘醌二叠氮-6-磺酸等。此外,邻萘醌二叠氮磺酸的盐类例如是邻萘醌二叠氮横酰基齒化物(diazonaphthoquinonesulfonylhalide。[0103]所述羟基化合物的具体例包括但不限于羟基二苯甲酮类化合物、羟基芳基类化合物、(轻基苯基烃类化合物、其他芳香族羟基类化合物,或上述化合物的组合。[0104]该轻基二苯甲酮类化合物hydroxybenzophenone-basedcompound的具体例包括但不限于2,3,4_三羟基二苯甲酮、2,4,4’_三羟基二苯甲酮、2,4,6_三羟基二苯甲酮、2,3,4,4’_四羟基二苯甲酮、2,4,2’,4’_四羟基二苯甲酮、2,4,6,3’,4’_五羟基二苯甲酮、2,3,4,2’,4’-五羟基二苯甲酮、2,3,4,2’,5’-五羟基二苯甲酮、2,4,5,3’,5’-五羟基二苯甲酮或2,3,4,3’,4’,5’-六羟基二苯甲酮等。[0105]该轻基芳基类化合物hydroxyaryl-basedcompound的具体例包括但不限于由式b-Ι表示的羟基芳基类化合物。[0107]式b-Ι中,B1及B2各自独立表示氢原子、卤素原子或碳数为1至6烷基;B3、B4及B7各自独立表示氢原子或碳数为1至6的烷基;85』6』8』9』1及811各自独立表示氢原子、齒素原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的烷氧基、碳数为1至6的烯基或环烷基cycloalkyl;及h、i及j各自独立表示1至3的整数;k表示0或1。[0108]具体而言,由式b-Ι表示的羟基芳基类化合物的具体例包括但不限于三4-羟基苯基)甲烷、双4-羟基-3,5-二甲基苯基-4-羟基苯基甲烷、双4-羟基-3,5-二甲基苯基-3-羟基苯基甲烷、双4-羟基-3,5-二甲基苯基-2-羟基苯基甲烷、双4-羟基-2,5-二甲基苯基-4-羟基苯基甲烷、双4-羟基-2,5-二甲基苯基-3-羟基苯基甲烷、双4-羟基-2,5-二甲基苯基-2-羟基苯基甲烷、双4-羟基-3,5-二甲基苯基-3,4-二羟基苯基甲烷、双4-羟基-2,5-二甲基苯基-3,4-二羟基苯基甲烷、双4-羟基-3,5-二甲基苯基-2,4-二羟基苯基甲烷、双4-羟基-2,5-二甲基苯基-2,4-二羟基苯基甲烷、双4-羟基苯基)-3-甲氧基-4-羟基苯基甲烷、双3-环己基-4-羟基苯基-3-羟基苯基甲烷、双3-环己基-4-羟基苯基-2-羟基苯基甲烷、双3-环己基-4-羟基苯基-4-羟基苯基甲烷、双3-环己基-4-羟基-6-甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-4-羟基-6-甲基苯基-3-羟基苯基甲烷、双3-环己基-4-羟基-6-甲基苯基-4-羟基苯基甲烷、双3-环己基-4-羟基-6-甲基苯基-3,4-二羟基苯基甲烷、双3-环己基-6-羟基苯基-3-羟基苯基甲烷、双3-环己基-6-羟基苯基-4-羟基苯基甲烷、双3-环己基-6-羟基苯基-2-羟基苯基甲烷、双3-环己基-6-羟基-4-甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-6-羟基-4-甲基苯基-4-羟基苯基甲烷、双3-环己基-6-羟基-4-甲基苯基)-3,4_二羟基苯基甲烷、I-[1-4-羟基苯基)异丙基]Ια,1-双4-羟基苯基)乙基]苯、I-[1-3-甲基-4-羟基苯基)异丙基]-4-[1,1-双3-甲基-4-羟基苯基)乙基]苯,或上述化合物的组合。[0109]该轻基苯基经类化合物(hydroxyphenylhydrocarboncompound的具体例包括但不限于由式b-2表示的轻基苯基烃类化合物。[0111]式b-2中,B12与B13各自独立表示氢原子或碳数为1至6的烷基;及m及η各自独立表示1至3的整数。[0112]具体而言,由式b-2表示的轻基苯基烃类化合物的具体例包括但不限于2-2,3,4_三羟基苯基-2-2’,3’,4’_三羟基苯基丙烷、2-2,4_二羟基苯基-2-2’,4’_二羟基苯基)丙烷、2-4-羟基苯基-2-4羟基苯基)丙烷、双2,3,4-三羟基苯基)甲烷或双2,4-一轻基苯基)甲烧等。[0113]该其他芳香族羟基类化合物的具体例包括但不限于苯酚phenol、对-甲氧基苯酚、二甲基苯酚、对苯二酚、双酚A、萘酚、邻苯二酚、1,2,3-苯三酚甲醚、1,2,3-苯三酚-1,3-二甲基醚、3,4,5-三羟基苯甲酸、4,4’-[l-[4[-1-4-羟基苯基-1-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酸、或者部分酯化或部分醚化etherify的3,4,5_三轻基苯甲酸等。[0114]所述羟基化合物较佳为I-[1-4-羟基苯基异丙基]-4-[1,1_双4-羟基苯基)乙基]苯、2,3,4_三羟基二苯甲酮、2,3,4,4’_四羟基二苯甲酮或其组合。羟基化合物可单独使用或组合多种来使用。[0115]该邻萘醌二叠氮磺酸或其盐类与羟基化合物的反应通常在二氧杂环己烷dioxane、N_卩比略烧酮N-pyrrolidone或乙酰胺acetamide等有机溶剂中进行。此外,上述反应较佳为在三乙醇胺、碱金属碳酸盐或碱金属碳酸氢盐等碱性缩合剂condensingagent进行。[0116]该邻萘醌二叠氮磺酸酯⑻的酯化度degreeofesterification较佳为50%以上,亦即基于羟基化合物中的羟基总量为1〇〇摩尔百分率mo1%,羟基化合物中有50mo1%以上的羟基与邻萘醌二叠氮磺酸或其盐类进行酯化反应。邻萘醌二叠氮磺酸酯B的酯化度更佳为60%以上。[0117]该邻萘醌二叠氮磺酸酯⑻的具体例较佳为由4,4’-[l-[4[-l-4-羟基苯基-l-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚与邻萘醌二叠氮-5-磺酸所形成的邻萘醌二叠氮磺酸酯、2,3,4-三羟基二苯甲酮与邻萘醌二叠氮-5-磺酸所形成的邻萘醌二叠氮磺酸酯以及2-2,3,4_三羟基苯基-2-2’,3’,4三羟基苯基)丙烷与邻萘醌二叠氮-5-磺酸所形成的邻萘醌二叠氮磺酸酯,但不以此为限。[0118]基于该聚硅氧烷的使用量为100重量份,该邻萘醌二叠氮磺酸酯⑻的使用量为8重量份至48重量份;较佳为10至44重量份;且更佳为12至40重量份。[0119]根据本发明的溶剂(C的种类没有特别的限制。该溶剂(C例如是含醇式羟基alcoholichydroxy的化合物或含羰基carbonylgroup的环状化合物等。[0120]所述含醇式羟基的化合物的具体例包括但不限于丙酮醇acetol、3_羟基-3-甲基-2-丁酮(3-hydroxy-3-methyl-2-butanone、4_轻基_3_甲基_2_丁酮(4_hydroxy-3-methyl-2-butanone、5_轻基-2-戊酮(5_hydroxy-2-pentanone、4_轻基-4-甲基-2-戊酮4-hydroxy-4-methyl_2-pentanone亦称为二丙酮醇(diacetonealcohol,DAA、乳酸乙酯(ethyllactate、乳酸丁酯(butyllactate、丙二醇单甲酿propyleneglycolmonomethylether、丙二醇单乙酿(propyleneglycolmonoethylether,PGEE、丙二醇单甲酿醋酸酯(propyleneglycolmonomethyletheracetate,PGMEA、丙二醇单正丙酿propyleneglycolmono-n-propylether、丙二酉享单正丁酉迷(propyleneglycolmono-n-butylether、丙二醇单叔丁酿(propyleneglycolmono-t-butylether、3_甲氧基-1_丁醇(3-methoxy-l_butanol、3_甲基-3-甲氧基-I-丁醇(3-methyl-3_methoxy-l-butanol、或其组合。值得注意的是,含醇式羟基的化合物较佳为二丙酮醇、乳酸乙酯、丙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚醋酸酯或其组合。含醇式羟基的化合物可单独使用或组合多种来使用。[0121]所述含羰基的环状化合物的具体例包括但不限于γ-丁内酯(γ-butyrolactone、γ-戊内酯(γ-valerolactone、δ-戊内酯(δ-valerolactone、碳酸丙稀酯(propylenecarbonate、氮-甲基P比略烧酮(N-methylpyrrolidone、环己酮cyclohexanone或环庚酮cycloheptanone等。值得注意的是,含羰基的环状化合物较佳为γ-丁内酯、氮-甲基吡咯烷酮、环己酮或其组合。含羰基的环状化合物可单独使用或组合多种来使用。[0122]所述含醇式羟基的化合物可与含羰基的环状化合物组合使用,且其重量比率没有特别限制。含醇式羟基的化合物与含羰基的环状化合物的重量比值较佳为991至5050;更佳为955至6040。值得一提的是,当在溶剂〇:中,含醇式羟基的化合物与含羰基的环状化合物的重量比值为991至5050时,聚硅氧烷A中未反应的硅烷醇(silanol,Si-ΟΗ基不易产生缩合反应而降低IC藏安定性Storagestability。此外,由于含醇式轻基的化合物以及含羰基的环状化合物与邻萘醌二叠氮磺酸酯⑻的兼容性佳,因此于涂布成膜时不易有白化的现象,可维持保护膜的透明性。[0123]在不损及本发明的效果的范围内,该溶剂C亦可以含有其他溶剂。所述其他溶剂例如是:(1酯类:醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸异丙酯、醋酸正丁酯、醋酸异丁酯、丙二醇单甲醚醋酸酯、3-甲氧基-1-醋酸丁酯、3-乙氧基丙酸乙酯或3-甲基-3-甲氧基-1-醋酸丁酯等;⑵酮类:丙酮、甲基乙基酮、甲基丙基酮、甲基异丙基酮、甲基丁基酮、甲基异丁基酮、甲基正己基酮、二乙基酮、二异丙基酮、二异丁基酮、环戊酮、环己酮、环庚酮、甲基环己酮、乙酰丙酮、二丙酮醇或环己烯-1-酮等;或者(3醚类:二乙醚、二异丙醚、二正丁醚、二乙二醇二甲醚或二苯醚等。[0124]该溶剂⑹可单独使用或组合多种来使用。[0125]基于该聚硅氧烷㈧的使用量为100重量份,该溶剂C的使用量为100至700重量份;较佳为120至650重量份;且更佳为150至600重量份。[0126]本发明的硅烷化合物的特征,例如同时具有水解性甲硅烷基、硫-硅键结。[0127]本发明的硅烷化合物如下式D-I所示,同时具有上述水解性甲硅烷基、硫-硅键结的一系列构造。[0129]式D-I中:[0130]R1表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基,或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基;[0131]R2各独立地表示未经取代或经取代的碳数1至20的烷基、未经取代或经取代的碳数6至10的芳基、未经取代或经取代的碳数7至10的芳烷基、未经取代或经取代的碳数2至10的烯基,或未经取代或经取代的碳数1至20的有机氧基;[0132]R3表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基,或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基;[0133]η为1至3的整数;且[0134]m为1至3的整数。[0135]有关上述构造,具体而言可如下式D-2或式D-3所示。[0137]式D-2中:[0138]R1、!!与上述相同;R4各独立地表示未经取代或经取代的碳数1至20的烷基、未经取代或经取代的碳数6至10的芳基、未经取代或经取代的碳数7至10的芳烷基、未经取代或经取代的碳数2至10的烯基或未经取代或经取代的碳数1至20的有机氧基;Me表示甲基;Ph表示苯基。[0140]式D-3中:[0141]R^ruR'Me与上述相同;R5表示未经取代或经取代的碳数1至20的烷基、未经取代或经取代的碳数6至10的芳基、未经取代或经取代的碳数7至10的芳烷基或未经取代或经取代的碳数2至10的烯基。[0142]更具体而言,可如下式D-4至式D-9所示。[0145]式D-5至式D-9中:[0146]妒、11、]^、?11与上述相同$七表示乙基。[0147]更具体而言,式D-I至式D-9中的R1表示乙基。[0148]R1的烧基、芳基,例如甲基、乙基、丙基、丁基、苯基等;以甲基、乙基车父佳,以乙基更佳。R2的烷基,例如甲基、乙基、叔丁基、辛基、癸基、十二烷基等;芳基例如苯基、二甲苯基、甲苯基等;芳烧基例如苯甲基等,稀基例如乙稀基、丙稀基、戊稀基等;有机氧基例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、辛氧基、十^烧氧基等的烧氧基、苯氧基等的芳氧基、乙稀氧基、丙烯氧基、戊烯氧基等的烯氧基;以碳数1至6的烷基、苯基、碳数1至20的烷氧基较佳;以碳数1至4的烷基、苯基、碳数1至12的烷氧基更佳。R3的烷基或芳基,例如甲基、乙基、苯基等;以甲基车父佳。R4的烧基例如甲基、乙基、叔丁基、辛基、癸基、十^烧基等;芳基例如苯基、^甲苯基、甲苯基等;芳烧基例如苯甲基等;稀基例如乙稀基、丙稀基、戊稀基等;有机氧基例如甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基、辛氧基、十^烧氧基等的烧氧基、苯氧基等的芳氧基、乙稀氧基、丙稀氧基、戊稀氧基等的稀氧基;以与R2相同者$父佳。R5的烧基、芳基、芳烧基、稀基,例如甲基、乙基、丙基、丁基、叔丁基、辛基、癸基、十二烷基、苯基、苯甲基、乙烯基、丙烯基、戊烯基等;以碳数1至12的烷基较佳。[0149]本发明的硅烷化合物⑼,例如在催化剂存在下,使具有一个以上巯基的硅烷化合物与具有一个以上Si-H键的硅烷化合物通过脱氢反应而制得。[0150]由于本发明的上述制造方法的副生成物为氢,故没有过滤物且可于无溶剂的条件下良好地进行反应,为生产性极高的制造方法。[0151]制造本发明的硅烷化合物⑼时,视其所需亦可使用溶剂。溶剂只要是与原料的具有巯基的硅烷化合物、或具有Si-H键的硅烷化合物等为非反应性即可,没有特别的限制,具体而言例如戊烷、己烷、庚烷、癸烷等的脂肪族烃系溶剂、二乙醚、四氢呋喃、1,4_二恶烷等的醚系溶剂、二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮等的酰胺系溶剂、苯、甲苯、二甲苯等的芳香族烃系溶剂等。[0152]此时,关于上述式(1至9的硅烷化合物⑼的制造,可在催化剂存在下,使以下述式D_i所示的具有疏基的娃烧化合物与以下述式D-ii所示的具有Si-H键的娃烧化合物反应,形成硫-娃键结。[0154]式D-i及式D-ii中:[0155]#、1?2、1?3、11、111与上述相同。[0156]于制造本发明的硅烷化合物⑼时,必要的原料中,具有巯基的硅烷化合物的具体例包含α-巯基甲基三甲氧基硅烷、α-巯基甲基甲基二甲氧基硅烷、α-巯基甲基二甲基甲氧基硅烷、α-巯基甲基三乙氧基硅烷、α-巯基甲基甲基二乙氧基硅烷、α-巯基甲基二甲基乙氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-巯基丙基二甲基甲氧基硅烷、γ-巯基丙基三乙氧基硅烷、γ-巯基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-巯基丙基二甲基乙氧基硅烷等,但不限于此。[0157]于制造本发明的硅烷化合物⑼时,必要的原料中,具有Si-H键的有机化合物的具体例包含三甲基硅烷、乙基二甲基硅烷、二乙基甲基硅烷、三乙基硅烷、叔丁基二甲基硅烷、叔丁基二苯基硅烷、三异丙基硅烷、三-正丁基硅烷、三异丁基硅烷、二甲基苯基硅烷、二苯基甲基硅烷、二甲基-正辛基硅烷、癸基二甲基硅烷、十二烷基二甲基硅烷、二甲基乙烯基硅烷、三苯基硅烷、三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、三丁氧基硅烷、二甲基乙氧基硅烷、二甲基丁氧基硅烷、二甲基辛氧基硅烷、二甲基十二烷氧基硅烷等,但不限于此。[0158]于制造本发明的硅烷化合物⑼时,必要的催化剂,例如过渡金属催化剂或路易斯酸催化剂,过渡金属催化剂例如钌催化剂、铑催化剂、钯催化剂、铱催化剂、铂催化剂、金催化剂等,特别是以铑催化剂较佳,以RhClPPh33催化剂更佳。[0159]另外,路易斯酸催化剂例如氯化铝、硫酸铝、氯化锡、硫酸氯化锡、氯化铁、三氟化硼、五氟苯基硼酸等,特别是以五氟苯基硼酸较佳。[0160]于制造本发明的硅烷化合物D时,就反应性、生产性而言,具有巯基的硅烷化合物与具有Si-H键的有机硅化合物的配合比,以相对于巯基1摩尔而言,Si-H键为0.5至1.5摩尔、特别是0.9至1.1摩尔的范围进行反应较佳。[0161]于制造本发明的硅烷化合物D时,就反应性、生产性而言,具有巯基的硅烷化合物与催化剂的配合比,以相对于巯基1摩尔而言,在催化剂为0.000001至0.1摩尔、特别是0.000001至0.001摩尔的范围进行反应较佳。[0162]于制造本发明的硅烷化合物⑼时,反应温度没有特别的限制,通常为室温至反应原料或有机溶剂的沸点以下,较佳者为50至150°C、更佳者为60至120°C的范围进行反应。反应时间只要是可充分进行反应的时间即可,没有特别的限制,以约30分钟至24小时较佳,以约1至10小时更佳。[0163]基于该聚硅氧烷㈧的使用量为100重量份,该硅烷化合物〇的使用量为1至15重量份;较佳为1.5至13重量份;且更佳为2至11重量份。[0164]当未使用该硅烷化合物D时,则该正型感光性聚硅氧烷组合物具有耐化学性不佳的问题。[0165]本发明的正型感光性聚硅氧烷组合物可进一步含如下式E-I所示的环状硅氧烷化合物⑹:[0167]式ε-D中:[0168]R19及R2q表示具有脂环式环氧基alicyclicepoxygroup的一价基团或烧基,其中,该t个R19及t个R2中,至少有一者为具有脂环式环氧基alicyclicepoxygroup的一价基团;及[0169]t表示3以上的整数;[0170]其中,该R19及R2t3可为相同或不同,该多个R19及该多个R2t3分别可为相同或不同。[0171]该环状硅氧烷化合物⑹可包含但不限于2,4-二[2-3-{:氧杂双环[4.1.0]庚基}乙基]_2,4,6,6,8,8-六甲基-环四硅氧烷硅氧烷、4,8-二[2-3-{:氧杂双环[4.1.0]庚基}乙基]-2,2,4,6,6,8-六甲基-环四硅氧烷、2,4-二[2-3-{氧杂双环[4.1.0]庚基}乙基]_6,8-二丙基-2,4,6,8-四甲基-环四硅氧烷、4,8-二[2-3-{:氧杂双环[4.1.0]庚基}乙基]-2,6-二丙基-2,4,6,8-四甲基-环四硅氧烷、2,4,8-三[2-3-{:氧杂双环[4.1.0]庚基}乙基]-2,4,6,6,8-五甲基-环四硅氧烷、2,4,8-二[2-3-{:氧杂双环[4·1·0]庚基}乙基]-6-丙基-2,4,6,8-四甲基-环四硅氧烷、2,4,6,8-四[2-3-{:氧杂双环[4.1.0]庚基}乙基]-2,4,6,8-四甲基-环四娃氧烧、具有脂环式环氧基的倍半娃氧烧silsesquioxane等。[0172]具体而言,上述式E-I所示的环状硅氧烷化合物⑹的具体例可如下所示。[0174]该式E-I所示的环状硅氧烷化合物⑹可单独一种或或混合两种以上使用。[0175]基于该聚硅氧烷A的使用量为100重量份,该式E-I所示的环状硅氧烷化合物⑻的使用量为4重量份至24重量份,较佳为5重量份至22重量份,且更佳可为6重量份至20重量份。[0176]当使用该环状硅氧烷化合物⑻时,则可以进一步改善该正型感光性聚硅氧烷组合物的耐化学性。[0177]根据本发明的正型感光性聚硅氧烷组合物可选择性地进一步添加添加剂F。具体而言,该添加剂(F例如是增感剂(sensitizer、密着助剂(adhesionauxiIiaryagent、界面活性剂(surfactant、溶解促进剂(solubilitypromoter、消泡剂defoamer或其组合。[0178]该增感剂的种类并无特别的限制。增感剂较佳为使用含有酸式轻基(phenolichydroxy的化合物,其中含有酚式羟基的化合物的具体例包括但不限于三苯酚型化合物、双苯酚型化合物、多核分枝型化合物、缩合型苯酚化合物、多羟基二苯甲酮类或上述化合物的组合。[0179]该三苯酸型化合物trisphenoltypecompound的具体例包括但不限于三4-轻基苯基)甲烷、双4-羟基-3-甲基苯基-2-羟基苯基甲烷、双4-羟基-2,3,5-三甲基苯基-2-羟基苯基甲烷、双4-羟基-3,5-二甲基苯基-4-羟基苯基甲烷、双4-羟基-3,5-二甲基苯基-3-羟基苯基甲烷、双4-羟基-3,5-甲基苯基-2-羟基苯基甲烷、双4-羟基-2,5-二甲基苯基-4-羟基苯基甲烷、双4-羟基-2,5-二甲基苯基-3-羟基苯基甲烷、双4-羟基-2,5-二甲基苯基-2-羟基苯基甲烷、双4-羟基-3,5-二甲基苯基-3,4-二羟基苯基甲烷、双4-羟基-2,5-二甲基苯基-3,4-二羟基苯基甲烷、双4-羟基-2,5-二甲基苯基-2,4-二羟基苯基甲烷、双4-羟基苯基-3-甲氧基-4-羟基苯基甲烷、双5-环己基-4-羟基-2-甲基苯基-4-羟基苯基甲烷、双5-环己基-4-羟基-2-甲基苯基-3-羟基苯基甲烷、双5-环己基-4-羟基-2-甲基苯基-2-羟基苯基甲烷或双5-环己基-4-羟基-2-甲基苯基-3,4-二羟基苯基甲烧。[0180]该双苯酸型化合物bisphenoltypecompound的具体例包括但不限于双2,3,4-三羟基苯基)甲烷、双(2,4-二羟基苯基)甲烷、2,3,4-三羟基苯基-4羟基苯基甲烷、2_2,3,4-三羟基苯基-2-2’,3’,4’-三羟基苯基丙烷、2-2,4-二羟基苯基-2-2’,4’-二轻基苯基丙烧、2_4_轻基苯基_2_4’_轻基苯基丙烧、2_3_氣基_4_轻基苯基_2_3氣基-4’-轻基苯基丙烧、2_2,4_二轻基苯基_2_4’_轻基苯基丙烧、2_2,3,4_二轻基苯基-2-4’-羟基苯基丙烷或2-2,3,4-三羟基苯基-2-4’-羟基-3’,5’-二甲基苯基)丙烧等。[0181]该多核分枝型化合物polynuclearbranchedcompound的具体例包括但不限于I-[1-4-羟基苯基异丙基]-4-[1,1-双4-羟基苯基)乙基]苯或I-[1-3-甲基-4-羟基苯基异丙基]-4-[1,1-双3-甲基-4-羟基苯基)乙基]苯等。[0182]该缩合型苯酸化合物(condensationtypephenolcompound的具体例包括但不限于1,1-双4-羟基苯基环己烷等。[0183]该多轻基二苯甲酮类polyhydroxybenzophenone的具体例包括但不限于2,3,4-三羟基二苯甲酮、2,4,4’-三羟基二苯甲酮、2,4,6-三羟基二苯甲酮、2,3,4_三羟基-2’-甲基二苯甲酮、2,3,4,4’_四羟基二苯甲酮、2,4,2’,4’_四羟基二苯甲酮、2,4,6,3’,4’_五羟基二苯甲酮、2,3,4,2’,4’_五羟基二苯甲酮、2,3,4,2’,5’-五羟基二苯甲酮、2,4,6,3’,4’,5’_六羟基二苯甲酮或2,3,4,3’,4’,5’-六羟基二苯甲酮等。[0184]该密着助剂的具体例包括三聚氰胺melamine化合物及娃烧系化合物等。密着助剂的作用在于增加由正型感光性聚硅氧烷组合物所形成的保护膜与被保护的组件之间的密着性。[0185]该三聚氰胺的市售品的具体例包括由三井化学制造的商品名为Cyme1-300或Cymel-303等;或者由三和化学制造的商品名为Mff-30MH、MW-30、MS-11、MS-001、MX-750SMX-706等。[0186]该硅烷系化合物的具体例包括乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三2-甲氧基乙氧基硅烷、氮-2-胺基乙基-3-胺基丙基甲基二甲氧基硅烷、氮-2-胺基乙基-3-胺基丙基三甲氧基硅烷、3-胺丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基二甲基甲氧基硅烷、2-3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巯丙基三甲氧基硅烷或由信越化学公司制造的市售品商品名如KBM403等。[0187]该界面活性剂的具体例包括阴离子系界面活性剂、阳离子系界面活性剂、非离子系界面活性剂、两性界面活性剂、聚硅氧烷系界面活性剂、氟系界面活性剂或其组合。[0188]该界面活性剂的具体例包括但不限于⑴聚环氧乙烧烧基醚类polyoxyethylenealkylethers:聚环氧乙烷十二烷基醚等;(2聚环氧乙烷烷基苯基醚类polyoxyethylenephenylethers:聚环氧乙烧辛基苯基醚、聚环氧乙烧壬基苯基醚等;3聚乙二醇二酯类polyethyleneglycoldiesters:聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬酸酯等;⑷山梨糖醇酐脂肪酸酯类sorbitanfattyacidesters;5经脂肪酸改质的聚酯类fattyacidmodifiedpolyesters;及⑹经三级胺改质的聚胺基甲酸酯类tertiaryaminemodifiedpolyurethanes等。界面活性剂的市售商品的具体例包括KP由信越化学工业制造)、SF-8427由道康宁东丽聚娃氧股份有限公司DowCorningToraySiliconeCo.,Ltd.制造)、Polyflow由共荣社油脂化学工业制造)、F-Top由得克姆股份有限公司制造(TochemProductsCo.,Ltd.制造)、Megaface由大日本印墨化学工业DIC制造)、Fluorade由住友3M股份有限公司(Sumitomo3MLtd.制造)、Surflon由旭硝子制造)、SIN0P0LE8008由中日合成化学制造)、F-475由大日本印墨化学工业制造或其组合。[0189]该消泡剂的具体例包括SurfynolMD_20、SurfynolMD-30、EnviroGemADOl、EnviroGemAEOKEnviroGemAE02、SurfynolDFlIOD、Surfynol104E、Surfynol420、SurfynolDF37、SurfynolDF58、SurfynolDF66、SurfynolDF70以及SurfynolDF210由气体产品Airproducts制造等。[0190]该溶解促进剂的具体例包括氮-羟基二羧基酰亚胺化合物(N-hydroxydicarboxylicimide以及含酸式轻基的化合物。溶解促进剂例如是邻萘醌二叠氮磺酸酯⑻中所使用的含酚式羟基的化合物。[0191]本发明的正型感光性聚硅氧烷组合物的制备方法例如:将聚硅氧烷㈧、邻萘醌二叠氮磺酸酯⑻、溶剂C、硅烷化合物⑼以及视需要的环状硅氧烷化合物⑻放置于搅拌器中搅拌,使其均匀混合成溶液状态,必要时亦可添加添加剂F,予以均匀混合后,便可获得溶液状态的正型感光性聚硅氧烷组合物。[0192]本发明亦提供一种于基板上形成薄膜的方法,其包含使用前述的正型感光性聚硅氧烷组合物施予该基板上。[0193]本发明又提供一种基板上的薄膜,其是由前述的方法所制得。[0194]本发明又提供一种液晶显示组件或有机电激发光显示器中TFT基板的平坦化膜或层间绝缘膜,或光波导路芯材或包覆材的保护膜,其是由前述的方法所制得。[0195]本发明再提供一种装置,其包含前述的薄膜。[0196]本发明再提供一种装置,其包含前述的液晶显示组件或有机电激发光显示器中TFT基板的平坦化膜或层间绝缘膜,或光波导路芯材或包覆材的保护膜[0197]以下将详细描述保护膜的形成方法,其依序包括:使用正型感光性聚硅氧烷组合物来形成预烤涂膜、对预烤涂膜进行图案化曝光、通过碱显影移除曝光区域以形成图案;以及进行后烤处理以形成保护膜。[0198]形成预烤涂膜[0199]通过回转涂布、流延涂布或辊式涂布等涂布方式,在被保护的组件(以下称为基材上涂布溶液状态的正型感光性聚硅氧烷组合物,以形成涂膜。[0200]基材可以是用于液晶显示设备的无碱玻璃、钠钙玻璃、硬质玻璃派勒斯玻璃)、石英玻璃、附着有透明导电膜的此等玻璃者,或是用于光电变换装置如固体摄影装置)的基材如:硅基材)。[0201]形成涂膜之后,以减压干燥方式去除正型感光性聚硅氧烷组合物的大部分有机溶剂,然后以预烤pre-bake方式将残余的有机溶剂完全去除,使其形成预烤涂膜。[0202]上述减压干燥及预烤的操作条件可依各成分的种类、配合比率而异。一般而言,减压干燥乃在〇托torr至200托的压力下进行1秒钟至60秒钟,并且预烤乃在70°C至IKTC温度下进行1分钟至15分钟。[0203]图案化曝光[0204]以具有特定图案的光罩对上述预烤涂膜进行曝光。在曝光过程中所使用的光线,以g线、h线或i线等紫外线为佳,并且用来提供紫外线的设备可为超高压水银灯或金属卤素灯。[0205]显影[0206]将经曝光的预烤涂膜浸渍于温度介于23±2°C的显影液中,进行约15秒至5分钟的显影,以去除经曝光的预烤涂膜的不需要的部分,亦即经曝光的区域溶解于显影液中,未经曝光的区域则保留,藉此可在基材上形成具有预定图案的保护膜的半成品。显影液的具体例包括但不限于氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠、碳酸钾、碳酸氢钾、硅酸钠、甲基硅酸钠(sodiummethylsilicate、氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氢氧化四甲铵THAM、氢氧化四乙铵、胆碱、吡咯、呱啶或1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一烯等碱性化合物。[0207]值得一提的是,显影液的浓度太高会使得特定图案损毁或造成特定图案的分辨率变差;浓度太低会造成显影不良,导致特定图案无法成型或者曝光部分的组合物残留。因此,浓度的多寡会影响后续正型感光性聚硅氧烷组合物经曝光后的特定图案的形成。显影液的浓度范围较佳为O.OOlwt%至10wt%;更佳为0.005wt%至5wt%;再更佳为O.Olwt%至lwt%。本发明的实施例是使用2.38wt%的氢氧化四甲铵的显影液。值得一提的是,即使使用浓度更低的显影液,本发明正型感光性聚硅氧烷组合物也能形成良好的微细化图案。[0208]后烤处理[0209]用水清洗基材其中基材上有预定图案的保护膜的半成品),以清除上述经曝光的预烤涂膜的不需要的部分。然后,用压缩空气或压缩氮气干燥上述具有预定图案的保护膜的半成品。最后以加热板或烘箱等加热装置对上述具有预定图案的保护膜的半成品进行后烤post-bake处理。加热温度设定在100°C至250°C之间,使用加热板时的加热时间为1分钟至60分钟,使用烘箱时的加热时间则为5分钟至90分钟。藉此,可使上述具有预定图案的保护膜的半成品的图案固定,以形成保护膜。[0210]举例而言,保护膜例如是以下述步骤来形成。首先,将正型感光性聚硅氧烷组合物以旋转涂布方式于素玻璃基板100X100X〇.7_形成上约2μπι的涂膜。随后以110°C预烤2分钟后,将涂膜至于曝光机下。接着,在曝光机与涂膜间置入正光阻用光罩,并以曝光机的紫外光照射预烤涂膜,其能量为1〇〇1^^2。将经曝光后的预烤涂膜浸渍于23°:的2.38%的TMAH水溶液60秒,以除去曝光的部分。接着,以清水清洗后,再以曝光机直接照射显影后的涂膜,其能量为200mJcm2。最后,以230°C后烤60分钟,可获得上面形成保护膜的素玻璃基板。[0211]兹以下列实例予以详细说明本发明,但并不意味本发明仅局限于此等实例所揭示的内容。[0212]聚硅氧烷㈧的制备[0213][0214]在容积为500毫升的三颈烧瓶中,加入0.01摩尔的3-三乙氧基硅基)丙基丁二酸酐(以下简称GF-20、0.15摩尔的甲基三甲氧基硅烷(以下简称MTMS、0.4摩尔的苯基三甲氧基硅烷(以下简称PTMS、0.44摩尔的四乙氧基硅烷(以下简称TE0S以及200克的4-羟基-4-甲基-2-戊酮(以下简称DAA,并于室温下一边搅拌一边于30分钟内添加磷酸水溶液0.3克磷酸75克水)。接着,将烧瓶浸渍于30°C的油浴中并搅拌30分钟。然后,于30分钟内将油浴升温至120°C。待溶液的温度降到IHTC亦即反应温度时,持续加热搅拌进行聚合9小时亦即聚缩合时间)。再接着,利用蒸馏方式将溶剂移除,即可获得聚硅氧烷A-I。该聚硅氧烷A-I的成分种类及其使用量如表1所示。[0215][0216]制备例2至制备例6的聚硅氧烷㈧是以与制备例1相同的步骤来制备,并且其不同处在于:改变聚硅氧烷A的成分种类及其使用量、反应温度及聚缩合时间(如表1所示)。[0220]正型感光性聚硅氧烷组合物的制备[0221][0222]将100重量份制备例1的聚硅氧烷A-I、8重量份的4,4’-[1-[4[-1-4_羟基苯基M-甲基乙基]苯基]亚乙基]双酚与邻萘醌二叠氮-5-磺酸所形成的邻萘醌二叠氮磺酸酯B-I以及5重量份如下表2中所示的D-I加入100重量份的丙二醇甲醚醋酸酯C-I中,并且以摇动式搅拌器shakingtypestirrer搅拌均勾后,S卩可制得实施例1的正型感光性聚硅氧烷组合物。将实施例1的正型感光性聚硅氧烷组合物以后述评价方式进行评价,其结果如表2所示。[0223][0224]实施例2至实施例10的正型感光性聚硅氧烷组合物是以与实施例1相同的步骤分别制备,并且其不同处在于:改变成分的种类及其使用量,如表2所示。将实施例2至10所制得的正型感光性聚硅氧烷组合物以后述评价方式进行评价,其结果如表2所示。[0225][0226]比较例1至比较例2的正型感光性聚硅氧烷组合物是以与实施例1相同的步骤分别制备,并且其不同处在于:改变成分的种类及其使用量,如表2所示。将比较例1至比较例2所制得的正型感光性聚硅氧烷组合物以后述评价方式进行评价,其结果如表2所示。[0227]表2:[0228][0232]评价方式耐化学性):[0233]将感光性聚硅氧烷组合物以旋转涂布方式涂布于玻璃基板上,以形成涂膜。接着,将涂膜在l〇〇°C下预烤2分钟,形成厚度约2μπι的预烤涂膜。然后,在曝光机与预烤涂膜间置入线与间距(lineandspace的光罩(由日本惠尔康(NIPPONFIIX0N制造),并利用300mJcm2的紫外光对预烤涂膜进行曝光曝光机型号为AG500-4N,由MR纳米科技制造)。接着,将上面有经曝光的预烤涂膜的基板在23°C下,以2.38%的氢氧化四甲基铵TMAH水溶液显影60秒,以去除玻璃基板上经曝光的部分涂膜,接着以纯水洗净后。再接着,以曝光机直接照射经显影的涂膜,曝光能量为200mJcm2。最后将涂膜在130°C下以烘箱进行后烤60分钟,即可获得具图案的保护膜。接着,将上述保护膜浸泡于60°C、3.4%的草酸溶液中10分钟,然后,观察并记录无剥落的最小线宽。耐化性的评价基准如下所示,其中无剥落的线宽越小,表示耐化性越佳。[0234]◎:无剥落的线宽兰12μπι;[0235]〇:12μπι40μπι。[0238]上述实施例仅为说明本发明的原理及其功效,而非限制本发明。本领域技术人员对上述实施例所做的修改及变化仍不违背本发明的精神。本发明的范围应如申请范围所列。

权利要求:1.一种正型感光性聚硅氧烷组合物,其包含:聚硅氧烷A;邻萘醌二叠氮磺酸酯⑻;溶剂⑹;及硅烷化合物⑼;其中,该硅烷化合物⑼具式D-I所示的结构:式D-I中:R1表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基,或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基;R2各独立地表示未经取代或经取代的碳数1至20的烷基、未经取代或经取代的碳数6至10的芳基、未经取代或经取代的碳数7至10的芳烷基、未经取代或经取代的碳数2至10的烯基,或未经取代或经取代的碳数1至20的有机氧基;R3表示未经取代或经取代的碳数1至10的烷基,或未经取代或经取代的碳数6至10的芳基;η为1至3的整数;且m为1至3的整数。2.根据权利要求1所述的正型感光性聚硅氧烷组合物,其中,该聚硅氧烷0V至少由式I-I所示的硅烷单体a-Ι聚缩合而得:SiRawORb4-w式I-I式1-1中:Ra各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、碳数为6至15的芳香基、含有酸酐基的碳数为1至10的烷基、含有环氧基的碳数为1至10的烷基或含有环氧基的烷氧基,且至少一个Ra表示含有酸酐基的碳数为1至10的烷基、含有环氧基的碳数为1至10的烷基或含有环氧基的烷氧基;Rb各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香基;及w表示1至3的整数。3.根据权利要求1所述的正型感光性聚硅氧烷组合物,其进一步包含式E-I所示的环状硅氧烷化合物⑹:式E-I中:R19及R2表示具有脂环式环氧基alicyclicepoxygroup的一价基团或烧基,其中,该t个R19及t个R2中,至少有一者为具有脂环式环氧基alicyclicepoxygroup的一价基团;及t表示3以上的整数;其中,该R19及R2t3可为相同或不同,该多个R19及该多个R2t3分别可为相同或不同。4.根据权利要求1所述的正型感光性聚硅氧烷组合物,其中,基于该聚硅氧烷0V的使用量为100重量份,该邻萘醌二叠氮磺酸酯⑻的使用量为8至24重量份;该溶剂〇:的使用量为100至700重量份;及该硅烷化合物⑼的使用量为1至15重量份。5.根据权利要求3所述的正型感光性聚硅氧烷组合物,其中,基于该聚硅氧烷的使用量为100重量份,该环状硅氧烷化合物⑹的使用量为4至24重量份。6.—种于基板上形成薄膜的方法,其包含使用根据权利要求1至5中任一项所述的正型感光性聚硅氧烷组合物施予该基板上。7.—种基板上的薄膜,其是由根据权利要求6所述的方法所制得。8.—种装置,其包含根据权利要求7所述的薄膜。9.一种液晶显示组件或有机电激发光显示器中TFT基板的平坦化膜或层间绝缘膜,或光波导路芯材或包覆材的保护膜,其是由根据权利要求6所述的方法所制得。10.—种装置,其包含根据权利要求9所述的液晶显示组件或有机电激发光显示器中TFT基板的平坦化膜或层间绝缘膜,或光波导路芯材或包覆材的保护膜。

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