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【发明授权】磁带及磁记录回放装置_富士胶片株式会社_202110765961.1 

申请/专利权人:富士胶片株式会社

申请日:2018-09-11

公开(公告)日:2022-12-02

公开(公告)号:CN113436654B

主分类号:G11B5/708

分类号:G11B5/708;G11B5/008;G11B5/68;G11B5/70;G11B5/706;G11B5/712;G11B5/714;G11B5/735;G11B5/78

优先权:["20170929 JP 2017-191659","20180828 JP 2018-159512"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.12.02#授权;2021.10.15#实质审查的生效;2021.09.24#公开

摘要:本发明提供一种磁带以及包括该磁带的磁记录回放装置,所述磁带在非磁性支撑体上具有包含强磁性粉末及粘结剂的磁性层,其中,磁性层包含氧化物研磨剂,根据对磁性层的表面照射聚焦离子束来获取的二次离子像求出的上述氧化物研磨剂的平均粒径为0.04μm以上且0.08μm以下,且在磁性层的面内方向上测量的折射率Nxy与在磁性层的厚度方向上测量的折射率Nz的差分的绝对值ΔN为0.25以上且0.40以下。

主权项:1.一种磁带,其在非磁性支撑体上具有包含强磁性粉末及粘结剂的磁性层,其中,所述磁性层包含氧化物研磨剂,在所述非磁性支撑体与所述磁性层之间,具有包含非磁性粉末及粘结剂的非磁性层,所述非磁性层的厚度为0.1~1.5μm,根据对所述磁性层的表面照射聚焦离子束而获取的二次离子像求出的所述氧化物研磨剂的平均粒径为0.04μm以上且0.08μm以下,并且在所述磁性层的面内方向上测量的折射率Nxy与在所述磁性层的厚度方向上测量的折射率Nz的差分的绝对值ΔN为0.25以上且0.40以下。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 富士胶片株式会社 磁带及磁记录回放装置

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