申请/专利权人：信越化学工业株式会社

申请日：2022-03-10

公开（公告）日：2022-12-02

公开（公告）号：CN217948254U

主分类号：C23C16/40

分类号：C23C16/40;C23C16/448;C23C16/455

优先权：["20210312 JP 2021-040704"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.12.02#授权

摘要：本实用新型的成膜装置对经雾化的原料溶液进行热处理而在基板上进行成膜，所述成膜装置包括：雾化部，将所述原料溶液雾化而产生雾；载气供给部，供给载气，所述载气搬送所述雾化部中所产生的所述雾；成膜部，在内部包括载置所述基板的载置部，将由所述载气搬送的所述雾供给至所述基板上；以及排气部，从所述成膜部排出废气，且在所述成膜部内的所述载置部的上方进而包括：喷嘴，向所述基板上供给所述雾；以及顶板，将从所述喷嘴供给的所述雾进行整流。由此，提供一种能够应用雾CVD法、能够形成膜厚的面内均一性优异的膜的成膜系统及成膜装置。

主权项：1.一种成膜装置，其对经雾化的原料溶液进行热处理而在基板上进行成膜，其特征在于，包括：雾化部，将所述原料溶液雾化而产生雾；载气供给部，供给载气，所述载气搬送所述雾化部中所产生的所述雾；成膜部，在内部包括载置所述基板的载置部，将由所述载气搬送的所述雾供给至所述基板上；以及排气部，从所述成膜部排出废气，在所述成膜部内的所述载置部的上方进而包括：喷嘴，向所述基板上供给所述雾；以及顶板，将从所述喷嘴供给的所述雾进行整流，所述载置部为用来加热所述基板的加热板。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 信越化学工业株式会社 成膜系统及成膜装置

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