申请/专利权人:武汉智图科技有限责任公司
申请日:2022-11-24
公开(公告)日:2023-01-06
公开(公告)号:CN115578488A
主分类号:G06T11/60
分类号:G06T11/60;G06T11/20;G06T11/00;G09B29/00
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2023.03.10#授权;2023.01.24#实质审查的生效;2023.01.06#公开
摘要:本发明提供的一种地图注记掩膜计算方法、系统、电子设备及存储介质,方法包括:对待添加注记的GIS地图进行初始化,获取初始化后GIS地图的多个面要素对象;基于输入的待掩膜计算的注记图层,生成与其重叠的第一空白矩形;基于与第一空白矩形相交的面要素对象,创建其对应的副本;将副本和第一空白矩形加入至路径选择器,并基于路径选择器进行裁切得到目标掩膜图层,目标掩膜图层为裁切后的副本和第一空白矩形的图层组。本发明通过生成与注记图层重叠的空白矩形,再创建与空白矩形橡胶的面要素对象对应的副本,将副本和空白矩形加入至路径选择器中进行裁切得到目标掩膜图层,从而实现了自动生成目标掩膜图层,解决了人工制图效率较低的问题。
主权项:1.一种地图注记掩膜计算方法,其特征在于,所述方法包括:对待添加注记的GIS地图进行初始化,获取初始化后GIS地图的多个面要素对象;基于输入的待掩膜计算的注记图层,生成与其重叠的第一空白矩形;基于与所述第一空白矩形相交的面要素对象,创建其对应的副本;将所述副本和所述第一空白矩形加入至路径选择器,并基于所述路径选择器进行裁切得到目标掩膜图层,所述目标掩膜图层为裁切后的副本和所述第一空白矩形的图层组。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 武汉智图科技有限责任公司 一种地图注记掩膜计算方法、系统、电子设备及存储介质
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。