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【发明授权】研磨用组合物_福吉米株式会社_202010205880.1 

申请/专利权人:福吉米株式会社

申请日:2020-03-23

公开(公告)日:2023-01-06

公开(公告)号:CN111748284B

主分类号:C09G1/02

分类号:C09G1/02;C09K3/14;H01L21/306;H01L21/321

优先权:["20190327 JP 2019-061627","20190930 JP 2019-178322"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.01.06#授权;2022.01.11#实质审查的生效;2020.10.09#公开

摘要:[课题]本发明的目的在于,提供一种新型的研磨用组合物,其有利于改善器件的品质。[解决方案]一种研磨用组合物,其用于研磨对象物的研磨,其包含:磨粒,其是使有机酸固定化于表面而成的;第1水溶性高分子,其具备具有磺酸基或其盐的基团、或具有羧基或其盐的基团;第2水溶性高分子,其不同于前述第1水溶性高分子;非离子系表面活性剂;和,水性载体。

主权项:1.一种研磨用组合物,其用于研磨对象物的研磨,其包含:磨粒,其是使有机酸固定化于表面而成的;第1水溶性高分子,其具备具有磺酸基或其盐的基团、或具有羧基或其盐的基团;第2水溶性高分子,其不同于所述第1水溶性高分子;非离子系表面活性剂;和,水性载体,所述第1水溶性高分子包含下述式1所示的结构单元: R9为氢原子或甲基,R10和R11各自独立地为氢原子、-COOR12或-G,其中,R10和R11不同时为氢原子,-G为磺酸基、 其中,*表示键合位置,R12、R13和R15各自独立地为氢原子、碳数1~12的烷基、碳数1~12的羟基烷基或抗衡阳离子,R14为二价基团,所述第2水溶性高分子包含下述式2所示的结构单元: X用下述表示: R1~R6各自独立地为氢原子或-J,-J为羟基、磺酸基或其盐的基团、 其中,*表示键合位置,R7和R8各自独立地为氢原子或-E,-E用下述式表示: 其中,*表示键合位置,所述结构单元包含-J和-E中的至少一者,所述非离子系表面活性剂包含含有甘油结构和碳数4以上的烷基的聚甘油烷基醚,或包含聚丙二醇,所述磨粒的含量为超过0.001质量%且为30质量%以下,所述第1水溶性高分子的含量为0.001质量%以上且10质量%以下,所述第2水溶性高分子的含量为0.001质量%以上且10质量%以下,所述非离子系表面活性剂的含量为0.001质量%以上且10质量%以下,所述第1水溶性高分子的重均分子量为1000以上且10万以下,所述第2水溶性高分子的重均分子量为5000以上且6万以下。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 福吉米株式会社 研磨用组合物

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