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【发明授权】硫酸酯化裂褶多糖及其制备方法及其在化妆品中的应用_华南理工大学_202111294970.3 

申请/专利权人:华南理工大学

申请日:2021-11-03

公开(公告)日:2023-01-06

公开(公告)号:CN114014948B

主分类号:C08B37/02

分类号:C08B37/02;A61K8/73;A61Q19/00

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.01.06#授权;2022.02.25#实质审查的生效;2022.02.08#公开

摘要:本发明公开了硫酸酯化裂褶多糖及其制备方法及其在化妆品中的应用;硫酸酯化裂褶多糖由浸润后的裂褶多糖与三氧化硫吡啶反应后降低温度至0~20℃,加入浓硫酸继续反应,反应产物经过蒸馏水溶解,调节溶液pH值,醇沉,复溶后透析,减压浓缩,干燥所得;控制三氧化硫吡啶的加入量为裂褶多糖质量的2~6倍,裂褶多糖与三氧化硫吡啶反应温度为50~80℃,反应时间为1~4h;控制浓硫酸的加入量为裂褶多糖质量的1~3倍,继续反应时间为10~40min。本发明所制备的硫酸酯化裂褶多糖的得率较高,为90%~200%,产物的取代度为1.6‑2.0,溶解性强,无需加热溶解。

主权项:1.一种硫酸酯化裂褶多糖在化妆品保湿、润肤中的应用,其特征在于,化妆品中添加0.5%~1wt%硫酸酯化裂褶多糖;所述的硫酸酯化裂褶多糖由浸润后的裂褶多糖与三氧化硫吡啶反应后降低温度至0~20℃,加入浓硫酸继续反应,反应产物经过蒸馏水溶解,调节溶液pH值,醇沉,复溶后透析,减压浓缩,干燥所得;控制三氧化硫吡啶的加入量为裂褶多糖质量的2~6倍,裂褶多糖与三氧化硫吡啶反应温度为50~80℃,反应时间为1~4h;控制浓硫酸的加入量为裂褶多糖质量的1~3倍,继续反应时间为10~40min。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 华南理工大学 硫酸酯化裂褶多糖及其制备方法及其在化妆品中的应用

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