申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2022-03-25

公开（公告）日：2023-01-06

公开（公告）号：CN218240661U

主分类号：G03F7/16

分类号：G03F7/16

优先权：["20210401 JP 2021-062851"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.01.06#授权

摘要：本公开涉及一种基板处理装置，使利用了适于EUV光刻的抗蚀剂材料的基板中的曝光时的感光度在面内均匀。基板处理装置1具有：光源42，在对利用EUV光刻用抗蚀剂材料形成了抗蚀剂膜的基板进行曝光处理前该光源42向该基板照射包括真空紫外光的光；以及作为光量抑制构件的有孔板52，其设置于来自所述光源的光的光路上，用于将到达所述基板表面的光的光量在照射区域中整体性地抑制为微弱光，其中，包括真空紫外光的光包括10nm～200nm波长中所包含的至少一部分波长带的连续的光谱成分。

主权项：1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：光源，在对利用EUV光刻用抗蚀剂材料形成了抗蚀剂膜的基板进行曝光处理前该光源向该基板照射包括真空紫外光的光；以及光量抑制构件，其设置于来自所述光源的光的光路上，用于将到达所述基板表面的光的光量在照射区域中整体性地抑制为微弱光，其中，所述包括真空紫外光的光包括10nm～200nm波长中所包含的至少一部分波长带的连续的光谱成分。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置

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