申请/专利权人：河北光兴半导体技术有限公司;北京远大信达科技有限公司

申请日：2022-09-15

公开（公告）日：2023-01-06

公开（公告）号：CN218223834U

主分类号：B08B3/12

分类号：B08B3/12;B08B13/00;B01F27/71

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.01.06#授权

摘要：本公开涉及一种溢流砖清洗机及溢流砖清洗系统，溢流砖清洗机包括箱体，箱体内设置有清洗机构与搅拌机构，清洗机构用于对箱体内的溢流砖进行清洗，搅拌机构浸泡在清洗液中，清洗完溢流砖后需要排出清洗液时，可先开启搅拌机构，搅拌机构进行转动，搅动箱体内的清洗液，使沉积在箱体内的杂质沉淀漂浮在清洗液中，搅拌机构保持转动，将悬浮在清洗液中的沉淀随着清洗液排出，避免对超声波清洗机使用时产生影响。

主权项：1.一种溢流砖清洗机，其特征在于，包括：箱体；清洗机构，设于所述箱体，用于对所述箱体内的溢流砖进行清洗；以及搅拌机构，设于所述箱体，用于搅动所述箱体中的清洗液。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 河北光兴半导体技术有限公司;北京远大信达科技有限公司 溢流砖清洗机及溢流砖清洗系统

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