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【发明公布】基于反向跟踪的测量方法和测量系统_深圳市中图仪器股份有限公司_202211589950.3 

申请/专利权人:深圳市中图仪器股份有限公司

申请日:2022-12-12

公开(公告)日:2023-01-13

公开(公告)号:CN115598654A

主分类号:G01S17/66

分类号:G01S17/66;G01S7/481;G01C1/00;G01C15/00

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.03.21#授权;2023.02.07#实质审查的生效;2023.01.13#公开

摘要:本公开描述一种基于反向跟踪的测量方法和测量系统,该测量方法是利用具有激光发射单元的激光跟踪仪和设置于目标的并具有可旋转的靶标的探头以获得目标的位置和姿态的测量方法,测量方法包括:获取靶标的位置坐标,在探头中,分别沿两个方向旋转靶标以使靶标对准激光发射单元,基于靶标的旋转角度和目标的部分欧拉角计算目标的其他的欧拉角。在这种情况下,靶标能够沿两个方向旋转后对准激光发射单元以实现反向跟踪,并且能够基于靶标的旋转角度和目标的部分欧拉角计算目标的其他欧拉角,不仅能够扩大靶标的可接收的角度范围,还能够降低靶标控制成本。

主权项:1.一种基于反向跟踪的测量方法,是利用具有激光发射单元的激光跟踪仪和设置于目标的并具有可旋转的靶标的探头以获得所述目标的位置和姿态的测量方法,其特征在于,所述测量方法包括:获取所述靶标相对于所述激光跟踪仪的位置,在所述探头中,分别沿两个方向旋转所述靶标以使所述靶标对准所述激光发射单元,基于所述激光跟踪仪的位置和所述靶标沿两个方向的旋转角度计算所述目标的欧拉角。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 深圳市中图仪器股份有限公司 基于反向跟踪的测量方法和测量系统

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