申请/专利权人:中国人民解放军国防科技大学
申请日:2022-12-19
公开(公告)日:2023-01-17
公开(公告)号:CN115611642A
主分类号:C04B35/628
分类号:C04B35/628;C04B35/565;C04B35/626
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2023.03.31#授权;2023.02.10#实质审查的生效;2023.01.17#公开
摘要:本发明公开了一种表面具有BN涂层的SiC晶须及其熔盐法制备方法,包括以下步骤:将熔盐、生成BN的反应物、SiC晶须按一定比例充分混合,得到混合均匀的粉体;然后将混合均匀的粉体进行升温烧结处理,使其充分反应后,得到混合熔盐的覆有BN涂层的SiC晶须,将混合熔盐的覆有BN涂层的SiC晶须经过水洗,将表面附着的熔盐洗掉,得到了表面覆有BN涂层的SiC晶须;最后将抽滤得到的粉末进行烘干,得到表面具有BN涂层的SiC晶须。本发明的方法适用于SiC晶须及短切纤维等表面BN涂层的制备,所得到的覆有鳞片状BN的SiC晶须可以用于SiC基复合材料的增强增韧。
主权项:1.一种表面具有BN涂层的SiC晶须,其特征在于,所述BN涂层通过熔盐法在SiC晶须表面形成,所述BN涂层在SiC晶须表面呈鳞片状均布,BN涂层的BN为六方氮化硼结构,BN涂层的厚度在10~50nm范围内。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 中国人民解放军国防科技大学 一种表面具有BN涂层的SiC晶须及其熔盐法制备方法
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