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【发明公布】版图图形边缘分割方法_上海华力微电子有限公司_202211390612.7 

申请/专利权人:上海华力微电子有限公司

申请日:2022-11-08

公开(公告)日:2023-01-20

公开(公告)号:CN115629518A

主分类号:G03F1/36

分类号:G03F1/36;G03F7/20

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.02.14#实质审查的生效;2023.01.20#公开

摘要:本发明公开了一种版图图形边缘分割方法,边缘分割中包括进行纹波抑制的边缘切分,纹波抑制的边缘切分包括如下步骤:步骤一、采用OPC模型的光刻模型提取版图的图形的各边的空间光强曲线。步骤二、计算所述空间光强曲线上的极值点。步骤三、在版图的图形的对应的边上形成以各极值点为中心的切分片段。本发明能基于OPC模型来改进版图图形的边缘分割,不需要工程师花费大量的时间来调试OPC配方,从而能获得稳定的OPC配方的调试时间,且具有较好的OPC修正精度。

主权项:1.一种版图图形边缘分割方法,其特征在于,边缘分割中包括进行纹波抑制的边缘切分,所述纹波抑制的边缘切分包括如下步骤:步骤一、采用OPC模型的光刻模型提取版图的图形的各边的空间光强曲线;步骤二、计算所述空间光强曲线上的极值点;步骤三、在所述版图的所述图形的对应的所述边上形成以各所述极值点为中心的切分片段。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海华力微电子有限公司 版图图形边缘分割方法

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