申请/专利权人：全芯智造技术有限公司

申请日：2022-12-20

公开（公告）日：2023-01-20

公开（公告）号：CN115630600A

主分类号：G06F30/39

分类号：G06F30/39

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.03.14#授权;2023.02.14#实质审查的生效;2023.01.20#公开

摘要：根据本公开的示例实施例提供了用于版图处理的方法、设备和介质。在该方法中，针对版图中的多个测量点确定版图中的多个目标图形。每个目标图形与一个测量点相对应，并且在与该测量点相关联的范围内。通过对多个目标图形分别应用与第一对称性对应的第一操作，从多个测量点中确定具有第一对称性的第一组测量点。至少基于第一组测量点来优化版图，以使得第一组测量点在经优化的版图中保持第一对称性。以此方式，可以在优化版图过程中保持多个目标图形具有对称性，进而使得在晶圆上与多个目标图形对应的实际图形同样具有对称性。

主权项：1.一种版图处理方法，其特征在于，包括：针对版图中的多个测量点确定所述版图中的多个目标图形，其中每个目标图形与一个测量点相对应，并且在与所述测量点相关联的范围内；通过向所述多个目标图形分别应用与第一对称性对应的第一操作，从所述多个测量点中确定具有所述第一对称性的第一组测量点；以及至少基于所述第一组测量点来优化所述版图，以使得所述第一组测量点在经优化的所述版图中保持所述第一对称性。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 全芯智造技术有限公司 用于版图处理的方法、设备和介质

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