申请/专利权人：拓荆科技股份有限公司

申请日：2022-11-09

公开（公告）日：2023-01-24

公开（公告）号：CN115637421A

主分类号：C23C16/455

分类号：C23C16/455;C23C16/52

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.02.14#实质审查的生效;2023.01.24#公开

摘要：本发明提供了前驱体混合注入系统、半导体处理设备及前驱体控制方法。所述前驱体混合注入系统包括：多条支路；前置混合储气室，包括进气管路和出气管路，所述多条支路的各输出汇入所述进气管路，所述出气管路耦接反应腔室；以及压力检测计，位于前置混合储气室的进气管路上，用于监测所述前置混合储气室内部压力变化。其中，所述多条支路包括至少两路支路，每条支路为源瓶支路或者气体支路中的一者；所述源瓶支路输送前驱体原始状态为固态或液态的前驱体至所述前置混合储气室，所述气体支路输送气体前驱体或载体至所述前置混合储气室；所述源瓶支路或者气体支路具有流量计，控制进入所述前置混合储气室的流体流量和比例。

主权项：1.一种前驱体混合注入系统，其特征在于，所述系统包括：多条支路；前置混合储气室，包括进气管路和出气管路，所述多条支路的各输出汇入所述进气管路，所述出气管路耦接反应腔室；以及压力检测计，位于前置混合储气室的进气管路上，用于监测所述前置混合储气室内部压力变化；其中，所述多条支路包括至少两路支路，每条支路为源瓶支路或者气体支路中的一者；所述源瓶支路输送前驱体原始状态为固态或液态的前驱体至所述前置混合储气室，所述气体支路输送气体前驱体或载体至所述前置混合储气室；所述源瓶支路或者气体支路具有流量计，控制进入所述前置混合储气室的流体流量和比例。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 拓荆科技股份有限公司 前驱体混合注入系统、半导体处理设备及前驱体控制方法

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