申请/专利权人:贵州民族大学
申请日:2020-02-25
公开(公告)日:2023-01-24
公开(公告)号:CN111240048B
主分类号:G02F1/01
分类号:G02F1/01
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2023.01.24#授权;2020.07.24#实质审查的生效;2020.06.05#公开
摘要:本发明公开了一种光调制器,包括导电底层,所述导电底层的上表面的两端上固定设有绝缘层,所述绝缘层的上表面固定设有润滑层,所述二维材料的两端的下表面设在所述润滑层的上表面上,所述导电底层上设有第一电极,所述润滑层上设有第二电极,所述二维材料在所述润滑层上滑动。本发明的有益效果是:通过改变二维材料和导电底层之间的电压从而调节二维材料和底座之间的静电力,使得二维材料在润滑层上滑移,调节二维材料和导电底座之间的距离从而实现光调控,这种电光调制器可以实现紫外至红外光谱范围内的同时调制,且调制速度快,调制电压小,功耗低。
主权项:1.一种光调制器,其特征在于:包括导电底层1,所述导电底层1的上表面的两端上固定设有绝缘层2,所述绝缘层2的上表面固定设有润滑层3,所述二维材料4的两端的下表面设在所述润滑层3的上表面上,所述导电底层1上设有第一电极7,所述润滑层3上设有第二电极6,所述二维材料4在所述润滑层3上滑动,当所述导电底层1和所述二维材料4间施加一定的电压时,所述导电底层1和所述二维材料4间相互吸引或排斥,从而使得所述二维材料4在所述润滑层3上滑移并改变所述导电底层1和所述二维材料4之间的间距,调控所述导电底层1和所述二维材料4的光吸收和光反射。
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