买专利,只认龙图腾
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

【发明授权】单晶硅及其制备方法_晶澳太阳能有限公司_202110515896.7 

申请/专利权人:晶澳太阳能有限公司

申请日:2021-05-12

公开(公告)日:2023-01-24

公开(公告)号:CN113355739B

主分类号:C30B15/04

分类号:C30B15/04;C30B29/06

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.01.24#授权;2021.09.24#实质审查的生效;2021.09.07#公开

摘要:本发明公开一种单晶硅及其制备方法。该制备方法为直拉法,包括在惰性气体的环境下对多晶硅料进行熔融和拉晶的步骤;其中在该制备方法中添加掺杂剂,所述掺杂剂包括镓和锑。本发明提供的制备方法可以使掺镓单晶硅的纵向电阻率分布均匀,兼顾单晶硅的电阻率和生产成本。

主权项:1.一种单晶硅的制备方法,其特征在于,该制备方法为直拉法,包括在惰性气体的环境下对多晶硅料进行熔融和拉晶的步骤;在该制备方法中添加掺杂剂,所述掺杂剂包括镓和锑;所述步骤用于在一个单晶炉中制备n棒单晶硅,n为大于等于2的整数,在制备前n-1棒单晶硅时仅添加镓作为掺杂剂,在制备第n棒单晶硅时同时加入镓和锑;所述镓和锑为固体镓和固体锑;所述镓和锑的质量比为64~65:48~49;在制备前n-1棒单晶硅时,所述镓的添加量以单晶硅头部电阻率为1.0-1.3Ω·cm的标准执行;在制备第n棒单晶硅时,所述镓和锑的添加总量以单晶硅头部的电阻率为1.0-1.3Ω·cm的标准执行。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 晶澳太阳能有限公司 单晶硅及其制备方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。