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【实用新型】一种电镀模具_崇辉半导体(深圳)有限公司_202222688842.3 

申请/专利权人:崇辉半导体(深圳)有限公司

申请日:2022-10-12

公开(公告)日:2023-01-24

公开(公告)号:CN218372585U

主分类号:C25D17/00

分类号:C25D17/00;C25D21/00

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.01.24#授权

摘要:本申请涉及一种电镀模具,包括环模座和出水模具,环模座并列设置有两个,出水模具夹持设置于两个环模座之间,药水箱设置于环模座的内圈,出水模具上设置有出水孔,凹凸结构产品安装在出水孔内,出水孔上设置有遮蔽件,遮蔽件用于遮蔽凸起结构。本申请具有使凹凸结构的LED产品的镀银层厚度更加均匀的效果。

主权项:1.一种电镀模具,其特征在于:包括环模座1和出水模具2,所述环模座1并列设置有两个,所述出水模具2夹持设置于两个所述环模座1之间,药水箱3设置于所述环模座1的内圈,所述出水模具2上设置有出水孔21,凹凸结构产品6安装在所述出水孔21内,所述出水孔21上设置有遮蔽件4,所述遮蔽件4用于遮蔽凸起结构。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 崇辉半导体(深圳)有限公司 一种电镀模具

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