申请/专利权人：华中科技大学

申请日：2022-11-11

公开（公告）日：2023-03-07

公开（公告）号：CN115755533A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;G06F17/16;G06N3/126

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.03.24#实质审查的生效;2023.03.07#公开

摘要：本发明属于集成电路制造在线测量领域，并具体公开了一种快照式套刻误差测量方法及系统，其包括步骤：对待测件进行测量，分别获取具有正、负预置偏差的两道测量光谱，对测量光谱进行相干解调，将特定频道移频至零频通道；采用线性算子处理移频后的光谱数据，获得对应正负预置偏差的系数；根据系数的实部和虚部系数线性组合构造特征量，则根据对应正负预置偏差的系数分别计算得到对应的特征量；基于特征量与套刻误差的线性关系，根据特征量计算得到套刻误差。本发明无需使用传统的傅里叶分析及截断操作，就可以进行套刻误差的多波长耦合求解，具有较高精度和对噪声的鲁棒性，可用于多场景下的快照式套刻误差测量的数据处理。

主权项：1.一种快照式套刻误差测量方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、对待测件进行测量，分别获取具有正、负预置偏差的两道测量光谱，对测量光谱进行相干解调，将特定频道移频至零频通道；S2、采用线性算子处理移频后的光谱数据，获得对应正负预置偏差的系数F+和F－；S3、通过系数的实部和虚部系数线性组合构造特征量，则根据系数F+和F－分别计算得到对应的特征量Spe+和Spe-；S4、基于特征量与套刻误差的线性关系，根据特征量Spe+和Spe-计算得到套刻误差。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 华中科技大学 一种快照式套刻误差测量方法及系统

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