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【发明公布】流平剂和包括所述流平剂的用于形成电路图案的电镀组合物_宏维科技有限公司_202280004649.3 

申请/专利权人:宏维科技有限公司

申请日:2022-06-24

公开(公告)日:2023-03-10

公开(公告)号:CN115777031A

主分类号:C25D3/38

分类号:C25D3/38

优先权:["20210706 KR 10-2021-0088379"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.03.28#实质审查的生效;2023.03.10#公开

摘要:本发明提供了一种流平剂,其控制用于形成电路图案的电镀工艺。即使所述电路图案具有各种线宽,所述流平剂也允许所述电路图案具有均匀的高度和正方形形状。本发明还提供了一种包括所述流平剂的电镀组合物。

主权项:1.一种由式1表示的流平剂: 其中,X1和Y1各自独立地选自由C1-C10烷基、C6-C20芳基和C2-C20杂芳基组成的组,A1是单键或选自由氧O、硫S、羰基C=O、NR1、C1-C10亚烷基、C6-C20亚芳基和C2-C20杂亚芳基组成的组,R1选自由氢H、C1-C10烷基、C6-C20芳基和C2-C20杂芳基组成的组,并且n和m各自独立地为0至10的整数,条件是n和m中的至少一个为1或更大,或包含至少一种结构单元,所述结构单元选自由式2至5所表示的组成的组: 其中,A2至A5各自独立地为单键或选自由氧O、硫S、NR2、羰基C=O、C1-C10亚烷基、C6-C20亚芳基和C2-C20杂芳基组成的组,R2选自由氢H、C1-C10烷基、C6-C20芳基和C2-C20杂芳基组成的组,L1和L2各自独立地选自由C1-C10亚烷基、C6-C20亚芳基和C2-C20杂亚芳基组成的组,每个R3独立地选自由氢H、C1-C10烷基、C6-C20芳基和C2-C20杂芳基组成的组,n和m各自独立地为0至10的整数,条件是n和m中的至少一个为1或更大,并且每个z独立地为1至10的整数,条件是X1和Y1中的每一个的烷基、芳基或杂芳基,A1的亚烷基、亚芳基或杂亚芳基,A2至A5中的每一个的亚烷基、亚芳基或杂亚芳基、L1和L2中的每一个的亚烷基、亚芳基或杂芳基以及R1至R3中的每一个的烷基、芳基或杂芳基各自独立地任选被一个或多个选自由卤素基团、C1-C10烷基、C6-C20芳基和C2-C20杂芳基组成的组的取代基取代。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 宏维科技有限公司 流平剂和包括所述流平剂的用于形成电路图案的电镀组合物

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