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【发明公布】荧光X射线分析装置_株式会社岛津制作所_202080102474.0 

申请/专利权人:株式会社岛津制作所

申请日:2020-12-07

公开(公告)日:2023-03-14

公开(公告)号:CN115803612A

主分类号:G01N23/223

分类号:G01N23/223

优先权:["20200630 JP 2020-112575"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.03.31#实质审查的生效;2023.03.14#公开

摘要:提供一种能够减少构成测量气氛的气体的消耗量的荧光X射线分析装置。荧光X射线分析装置1具备:试样室11,其载置试样41;测量室12,其与所述试样室11的试样41相邻地配置;X射线管20,其向所述试样11照射X射线23;以及检测器30,其检测由所述试样41反射的X射线23,在所述检测器30设有:通路36,其位于所述测量室12内并且供反射的X射线23通过;以及孔33,其连接所述通路36与所述检测器30外部。

主权项:1.一种荧光X射线分析装置,其中,该荧光X射线分析装置具备:试样室,其载置试样;测量室,其与所述试样室的试样相邻地配置;X射线管,其向所述试样照射X射线;以及检测器,其检测由所述试样反射的X射线,在所述检测器设有:通路,其位于所述测量室内并且供反射的X射线通过;以及孔,其连接所述通路与所述检测器外部。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 株式会社岛津制作所 荧光X射线分析装置

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