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【发明公布】用于检测晶圆缺陷的装置_苏州高视半导体技术有限公司_202310026845.7 

申请/专利权人:苏州高视半导体技术有限公司

申请日:2023-01-09

公开(公告)日:2023-03-14

公开(公告)号:CN115791807A

主分类号:G01N21/88

分类号:G01N21/88;G01N21/01

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.05.30#授权;2023.03.31#实质审查的生效;2023.03.14#公开

摘要:本发明公开了一种用于检测晶圆缺陷的装置,包括第一分光镜、第一调节模块、第一导向组件、第二分光镜、第二调节模块及第二导向组件。第一分光镜用于接收来自于晶圆的正面的第一成像光,并将第一成像光引导通过第一调节模块和第一导向组件以进入拍摄模块;第二分光镜用于接收来自于晶圆的反面的第二成像光,并将第二成像光引导通过第二调节模块和第二导向组件以进入拍摄模块;来自于晶圆的侧面的第三成像光进入拍摄模块。在第一和第二调整模块的调整下,晶圆的正面、反面和侧面到拍摄模块的成像距离相同或相近。装置的结构简单且生产成本低,不但能将晶圆的正面、反面和侧面显示在一张图像上,而且还能降低晶圆缘部缺陷的成像难度及识别难度。

主权项:1.一种用于检测晶圆缺陷的装置,其特征在于,包括第一分光镜、第一调节模块、第一导向组件、第二分光镜、第二调节模块及第二导向组件;所述第一分光镜用于接收第一成像光,并将所述第一成像光引导通过所述第一调节模块和第一导向组件以进入拍摄模块,其中所述第一成像光来自于所述晶圆的正面;所述第二分光镜用于接收第二成像光,并将所述第二成像光引导通过所述第二调节模块和第二导向组件以进入所述拍摄模块,其中所述第二成像光来自于所述晶圆的反面;来自于所述晶圆的侧面的第三成像光进入所述拍摄模块;所述第一调节模块被构造成能够调整所述晶圆的正面到所述拍摄模块的第一成像距离,所述第二调节模块被构造成能够调整所述晶圆的反面到所述拍摄模块的第二成像距离,以使得第一成像距离和第二成像距离趋近于所述晶圆的侧面到拍摄模块的第三成像距离。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 苏州高视半导体技术有限公司 用于检测晶圆缺陷的装置

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