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【发明公布】基材层叠体、光学层叠体、基材层叠体的制造方法和偏振板的制造方法_住友化学株式会社_202211098538.1 

申请/专利权人:住友化学株式会社

申请日:2022-09-06

公开(公告)日:2023-03-14

公开(公告)号:CN115793125A

主分类号:G02B5/30

分类号:G02B5/30;B32B27/06;B32B33/00;B32B7/12

优先权:["20210910 JP 2021-147798"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2023.03.14#公开

摘要:本发明提供能够容易地除去在偏振板的制造过程中制作的光学层叠体的端部片的基材层叠体。基材层叠体A具备基材层2和直接层叠于基材层2的表面的表面处理层3。基材层叠体A包含在与基材层2的表面大致平行的方向上相对的一对端部AE和位于一对端部AE之间的中央部AC。将基材层叠体A的至少一个端部AE处的基材层2相对于表面处理层3的剥离强度表示为Ie。将基材层叠体A的中央部AC处的基材层2相对于表面处理层3的剥离强度表示为Ic。Ie高于Ic。本发明还涉及光学层叠体、基材层叠体的制造方法和偏振板的制造方法。

主权项:1.一种基材层叠体,其具备基材层和直接层叠于所述基材层的表面的表面处理层,所述基材层叠体包含在与所述基材层的所述表面大致平行的方向上相对的一对端部和位于所述一对端部之间的中央部,将至少一个所述端部处的所述基材层相对于所述表面处理层的剥离强度表示为Ie,将所述中央部处的所述基材层相对于所述表面处理层的剥离强度表示为Ic,Ie高于Ic。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 住友化学株式会社 基材层叠体、光学层叠体、基材层叠体的制造方法和偏振板的制造方法

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