申请/专利权人：维耶尔公司

申请日：2021-07-22

公开（公告）日：2023-03-14

公开（公告）号：CN115803893A

主分类号：H01L31/00

分类号：H01L31/00

优先权：["20200722 US 63/055,121"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.08.08#实质审查的生效;2023.03.14#公开

摘要：本发明公开了不同选项电子装置，其结构包括掺杂层、功能层、欧姆层、导电层、平面化层和钝化层。本发明还公开了顶侧和底侧的连接件的配置，其包括隔离结构、隔离结构的相关电极和高度配置。

主权项：1.一种光电装置，所述装置包括：掺杂层和阻挡层；功能层；所述掺杂层、阻挡层和功能层蚀刻于隔离结构上；所述隔离结构部分地包括欧姆层；所述隔离结构位于所述装置的顶部和底部上；介电层，所述介电层经沉积以至少覆盖隔离结构的侧；导电层，所述导电层位于所述隔离结构的开放区域上；以及钝化层，所述钝化层被形成为填充所述光电装置的表面。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 维耶尔公司 微光电装置

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD