申请/专利权人:哈尔滨工业大学
申请日:2022-11-08
公开(公告)日:2023-03-14
公开(公告)号:CN115780411A
主分类号:B08B7/00
分类号:B08B7/00;B08B13/00
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2023.03.31#实质审查的生效;2023.03.14#公开
摘要:本发明涉及等离子清洗技术领域,提供一种光学件用等离子清洗头和等离子体清洗设备,包括呈中空的等离子体流通组件和安装在等离子体流通组件上的镜框,等离子体流通组件上设有比适于喷射出等离子体的喷射口大且适于弥散出等离子体的出流口,镜框与出流口连通且围绕在出流口外,以及,镜框适于镶嵌光学镜体,以使光学镜体与出流口呈相对设置,有助于提升等离子体从出流口流动至光学镜体的分散性和稳定性,有助于促进光学镜体对等离子体进行能量吸收,有助于提高等离子体对光学镜体进行大面积清洗的强度和效率,摆脱了喷射口对等离子体清洗光学件的性能构成制约的困境。
主权项:1.一种光学件用等离子清洗头,其特征在于,所述光学件用等离子清洗头包括呈中空的等离子体流通组件11和安装在所述等离子体流通组件11上的镜框12;所述等离子体流通组件11上设有比适于喷射出等离子体的喷射口大且适于弥散出等离子体的出流口1111;所述镜框12与所述出流口1111连通且围绕在所述出流口1111外,以及,所述镜框12适于镶嵌光学镜体2,以使所述光学镜体2与所述出流口1111呈相对设置。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 哈尔滨工业大学 一种光学件用等离子清洗头和等离子体清洗设备
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