申请/专利权人：九牧厨卫股份有限公司

申请日：2022-11-23

公开（公告）日：2023-03-14

公开（公告）号：CN115786792A

主分类号：C22C29/12

分类号：C22C29/12;C22C1/051;C23C14/14;B22F3/10;C23C14/35;C02F1/48

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.01.02#授权;2023.03.31#实质审查的生效;2023.03.14#公开

摘要：本申请提供了一种阻垢靶材及其制备和应用，所述阻垢靶材中，钡铁氧体为基体，Cu、Sn、Ni、Cr、Ti、Zr均匀地以弥散形式分布在所述基体中，靶材中钡铁氧体为84wt.％至95wt.％，Cu为0.6wt.％至2.4wt.％、Sn为0.9wt.％至3.6wt.％，Ni为0.8wt.％至2.4wt.％、Cr为1.2wt.％至3.6wt.％，Ti为0.5wt.％至2.0wt.％、Zr为0.5wt.％至2.0wt.％。本申请提供的阻垢靶材制得的镀膜层化学性质稳定，长时间使用不会像化学阻垢一样污染水体。本申请提供的镀膜层可以与水体近距离接触而不用像常规磁场阻垢一样需穿过水管等物质，这不仅可以使得所需磁场强度降低、而且不用外接电源，并且镀膜可以在任意形状产品上实施，不受产品形状的安装限制。

主权项：1.一种阻垢靶材，其特征在于，所述阻垢靶材中，钡铁氧体为基体，Cu、Sn、Ni、Cr、Ti、Zr均匀地以弥散形式分布在所述基体中，靶材中钡铁氧体为84wt.％至95wt.％，Cu为0.6wt.％至2.4wt.％、Sn为0.9wt.％至3.6wt.％，Ni为0.8wt.％至2.4wt.％、Cr为1.2wt.％至3.6wt.％，Ti为0.5wt.％至2.0wt.％、Zr为0.5wt.％至2.0wt.％。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 九牧厨卫股份有限公司 一种阻垢靶材及其制备和应用

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