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【发明公布】一种激光控制系统_安图实验仪器(郑州)有限公司_202211498357.8 

申请/专利权人:安图实验仪器(郑州)有限公司

申请日:2022-11-28

公开(公告)日:2023-03-14

公开(公告)号:CN115799980A

主分类号:H01S5/068

分类号:H01S5/068

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.03.31#实质审查的生效;2023.03.14#公开

摘要:本发明公开了一种激光控制系统,包括控制单元和执行检测单元,执行检测单元安装在激光头内部,通过线缆与所述控制单元连接;执行检测单元包括:LD、检测LD发光功率的PD、控制LD工作温度的第一TEC、检测第一TEC温度的第一NTC、控制非线性晶体温度的第二TEC、检测第二TEC温度的第二NTC;控制单元包括:第一、第二、第三、第四MCU、多通道ADC模块;第一MCU实现对各个MCU的控制;第二MCU用于控制向LD供电或断电;第三MCU对LD的发光脉冲宽度进行调制;第四MCU用于控制第一、第二TEC工作温度在预设的阈值内。本发明控制系统采用单片机,控制逻辑简单,降低了开发难度和成本。通过对LD的光功率检测,为进一步对激光器出光效果的评估提供了准确的科学数据。

主权项:1.一种激光控制系统,包括控制单元和执行检测单元,其特征在于:所述执行检测单元安装在激光头内部,通过线缆与所述控制单元连接;所述执行检测单元包括:LD、检测所述LD发光功率的PD、控制LD工作温度的第一TEC、检测所述第一TEC温度的第一NTC、控制非线性晶体温度的第二TEC、检测所述第二TEC温度的第二NTC;所述控制单元包括:第一MCU、第二MCU、第三MCU、第四MCU、多通道ADC模块;所述第一MCU通过SPI口与所述第二MCU、第三MCU和第四MCU通信,实现对各个MCU的控制;第二MCU,用于控制电源模块向LD供电,并对LD进行过流、过压保护;第三MCU,用于接收能量计算模块发送的PD能量值,并根据所述PD能量值,通过脉宽调制模块对LD的发光脉冲宽度进行调制;第四MCU,用于接收所述多通道ADC模块发送的所述第一、第二NTC采集的温度数据,并与预设的LD工作温度、非线性晶体温度进行比较后,控制第一、第二TEC工作温度在预设的阈值内;多通道ADC模块,用于接收第一、第二NTC采集的温度数据,并发送给第四MCU。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 安图实验仪器(郑州)有限公司 一种激光控制系统

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