申请/专利权人：上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司

申请日：2022-11-28

公开（公告）日：2023-03-14

公开（公告）号：CN115793406A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.03.31#实质审查的生效;2023.03.14#公开

摘要：本发明提供了一种掩模版冷却装置及其冷却方法、光刻机台；所述冷却单元设置在掩模版含有曝光区域的一侧，且所述冷却单元与所述掩模版之间形成一供冷却液体移动的缝隙，以使所述冷却单元与所述掩模版形成液体接触；所述移动控制装置与所述冷却单元相连接；所述控制单元分别与所述移动控制装置和所述冷却单元电性和或通讯连接；所述控制单元用于控制所述冷却单元喷出冷却液体的流量和速度，以及控制所述移动控制装置驱动所述冷却单元随扫描曝光光束移动；本发明中通过所述冷却单元与所述掩模版形成液体接触，实现所述掩模版与冷却液体的直接接触，由于液体的导热效率显著高于同等流量的气体，因此通过冷却液体冷却可以达到更高的冷却效果。

主权项：1.一种掩模版冷却装置，其特征在于，包括移动控制装置、冷却单元和控制单元；所述冷却单元设置在掩模版含有曝光区域的一侧，且所述冷却单元与所述掩模版之间形成一供冷却液体移动的缝隙，以使所述冷却单元与所述掩模版形成液体接触；所述移动控制装置与所述冷却单元相连接；所述控制单元分别与所述移动控制装置和所述冷却单元电性和或通讯连接；其中，所述控制单元用于控制所述冷却单元喷出冷却液体的流量和速度，以及控制所述移动控制装置驱动所述冷却单元随扫描曝光光束移动。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司 掩模版冷却装置及其冷却方法、光刻机台

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