申请/专利权人:盛华基材(天津)科技有限公司
申请日:2022-10-13
公开(公告)日:2023-03-14
公开(公告)号:CN218631978U
主分类号:H01L21/683
分类号:H01L21/683;H01L21/687;H01L21/677;H01L21/67
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2023.03.14#授权
摘要:本实用新型涉及半导体行业湿制程设备技术领域,特别是一种基板支撑与密封结构,包括安装件和支撑件,所述安装件内部设有安装槽,支撑件的环周向内收缩设有限位槽,限位槽的上部环周向外设有凸起结构,凸起结构的上部向上凸出,限位槽的下部环周设有限位结构,限位结构嵌入到限位槽内,限位槽与安装件之间形成密封,凸起机构卡在安装件的上部。本装置中支撑件采用嵌入式“收口锁紧”与“斜面密封”安装方式,既实现了防脱功能,同时也增强了在真空吸附时的密封功能,真空吸附时可有效避免真空泄露。
主权项:1.一种基板支撑与密封结构,其特征在于:包括安装件和支撑件,所述安装件内部设有安装槽,支撑件的环周向内收缩设有限位槽,限位槽的上部环周向外设有凸起结构,凸起结构的上部向上凸出,限位槽的下部环周设有限位结构,限位结构嵌入到限位槽内,限位槽与安装件之间形成密封,凸起机构卡在安装件的上部。
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权利要求:
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