申请/专利权人：东洋纺株式会社

申请日：2021-06-03

公开（公告）日：2023-03-14

公开（公告）号：CN115803198A

主分类号：B32B27/36

分类号：B32B27/36

优先权：["20200702 JP 2020-115131"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.05.30#实质审查的生效;2023.03.14#公开

摘要：提供一种印刷物，其使用了易粘接性聚酯薄膜，所述易粘接性聚酯薄膜的透明性高且具有抗粘连性，对各种墨组合物具有良好的密合性，特别是在低辐射剂量加工时或者高速印刷时对于UV固化型墨的密合性良好。一种具有特定的特性的印刷物，其是在于聚酯薄膜基材的至少一个面具有涂布层的易粘接性聚酯薄膜的前述涂布层上层叠选自UV固化型墨、溶剂型墨、氧化聚合型墨、热转印墨带、LBP调色剂中的至少1层的墨层而成的，前述涂布层是含有具有聚碳酸酯结构的聚氨酯树脂、交联剂和聚酯树脂的组合物固化而成的。

主权项：1.一种印刷物，其是在于聚酯薄膜基材的至少一个面具有涂布层的易粘接性聚酯薄膜的所述涂布层上层叠选自UV固化型墨、溶剂型墨、氧化聚合型墨、热转印墨带、LBP调色剂中的至少1层的墨层而成的，所述涂布层是使含有具有聚碳酸酯结构的聚氨酯树脂、交联剂和聚酯树脂的组合物固化而形成的，在针对所述涂布层的、基于X射线光电子能谱法的深度方向的元素分布测定的氮元素的分布曲线中，将与聚酯薄膜基材相反侧的涂布层表面的氮原子比率设为Aat％、氮原子比率的最大值设为Bat％、氮原子比率显示最大值Bat％的蚀刻时间设为b秒、在b秒以后氮原子比率变为12Bat％时的蚀刻时间设为c秒时，满足下述式i～iii式，并且在利用X射线光电子能谱法测定的表面分析图谱中，将C1s图谱区域的源自各键种的峰面积总计设为100％、源自OCOO键的峰面积设为X％时，满足下述式iv，i0.5≤B-Aat％≤3.0ii30≤b秒≤180iii30≤c-b秒≤300iv2.0≤X％≤10.0。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东洋纺株式会社 印刷物

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