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【发明公布】图像传感器及其形成方法_格科微电子(上海)有限公司_202111067352.5 

申请/专利权人:格科微电子(上海)有限公司

申请日:2021-09-13

公开(公告)日:2023-03-17

公开(公告)号:CN115810639A

主分类号:H01L27/146

分类号:H01L27/146

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.04.04#实质审查的生效;2023.03.17#公开

摘要:本发明公开了一种图像传感器及其形成方法,该方法包括:提供半导体衬底,半导体衬底具有正面和背面;自半导体衬底正面对半导体衬底进行离子注入,分别形成第一离子掺杂区、第二离子掺杂区和第三离子掺杂区共同形成图像传感器的感光单元;所述第二离子掺杂区位于所述第一离子掺杂区下方;所述第三离子掺杂区至少部分包围所述第一离子掺杂区。本发明的技术方案通过磷和砷共同对半导体衬底进行N型离子注入,可以减少磷扩散到底部导致底部面上钉扎不足引起的WP增加;既保证了FWC不会降低,又避免侧面隔离区钉扎不足引起WP增加;同时没有完全用砷去替代磷,热预算较少,注入的离子容易激活,注入过程的损伤容易修复。

主权项:1.一种图像传感器的形成方法,其特征在于,包括:提供半导体衬底,半导体衬底具有正面和背面;自半导体衬底正面对半导体衬底进行离子注入,分别形成第一离子掺杂区、第二离子掺杂区和第三离子掺杂区共同形成图像传感器的感光单元;所述第二离子掺杂区位于所述第一离子掺杂区下方;所述第三离子掺杂区至少部分包围所述第一离子掺杂区。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 格科微电子(上海)有限公司 图像传感器及其形成方法

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