申请/专利权人：应用材料公司

申请日：2021-06-24

公开（公告）日：2023-03-21

公开（公告）号：CN115836250A

主分类号：G03F7/16

分类号：G03F7/16

优先权：["20200701 US 63/047,162","20210617 US 17/351,096"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.04.07#实质审查的生效;2023.03.21#公开

摘要：本文所披露的实施方式包括使用干式沉积工艺沉积金属氧光刻胶的方法。在实施方式中，在真空腔室中于基板上方形成光刻胶层的方法包含将金属前驱物蒸气提供至真空腔室中。在实施方式中，方法进一步包含将氧化剂蒸气提供至真空腔室中，其中金属前驱物蒸气与氧化剂蒸气之间的反应导致在基板的表面上形成光刻胶层。在实施方式中，光刻胶层为含金属氧的材料。

主权项：1.一种在真空腔室中于基板上方形成光刻胶层的方法，包含以下步骤：将金属前驱物蒸气提供至所述真空腔室中；和将氧化剂蒸气提供至所述真空腔室中，其中所述金属前驱物蒸气与所述氧化剂蒸气之间的反应导致在所述基板的表面上形成所述光刻胶层，其中所述光刻胶层为含有金属氧的材料。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料公司 气相光刻胶沉积

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