申请/专利权人：三菱瓦斯化学株式会社

申请日：2021-07-08

公开（公告）日：2023-03-21

公开（公告）号：CN115836045A

主分类号：C07C39/14

分类号：C07C39/14

优先权：["20200708 JP 2020-118023","20200807 JP 2020-135055"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.05.26#实质审查的生效;2023.03.21#公开

摘要：本发明为一种光刻膜形成用组合物，其含有：选自具有规定结构的化合物和将其作为单体得到的树脂中的至少1种。

主权项：1.一种光刻膜形成用组合物，其含有：选自通式1所示的化合物、和通式3所示的化合物、以及式4所示的化合物、式5所示的化合物和将它们作为单体得到的树脂中的至少1种， 式1中，R各自独立地表示任选具有取代基或杂原子的碳数6～36的芳香族基团，X各自独立地表示任选具有取代基的、碳数2～4的烷二基、或碳数1～4的烷二基羰基，P各自独立地表示任选具有取代基的、碳数1～30的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～20的烯基、或碳数2～20的炔基、或者氢原子、交联性基团、或解离性基团，m各自独立地表示1～6的整数，n各自独立地表示0～4的整数， 式3中，R各自独立地表示任选具有取代基或杂原子的碳数6～36的芳香族基团，Rc各自独立地表示单键、任选具有取代基的碳数1～20的直链状或支链状的亚烷基、或任选具有取代基的碳数1～20的亚芳基，X各自独立地表示任选具有取代基的、碳数2～4的烷二基、或碳数1～4的烷二基羰基，P各自独立地表示任选具有取代基的、碳数1～30的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～20的烯基、或碳数2～20的炔基、或者氢原子、交联性基团、或解离性基团，m各自独立地表示1～6的整数，n各自独立地表示0～4的整数， 式4中，A各自独立地表示碳数6～10的芳香族基团，P各自独立地表示氢原子、碳数1～30的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～20的烯基、碳数2～20的炔基、交联性基团、或解离性基团，R1表示碳数6～10的芳香族取代基、或碳数1～20的烷基，Rx1各自独立地表示氢原子、碳数1～20的烷基、碳数1～20的烷氧基、或卤素，Ry1各自独立地表示氢原子、碳数1～20的烷基、碳数1～20的烷氧基、或卤素，m表示0～4的整数，n表示0～4的整数， 式5中，A各自独立地表示碳数6～10的芳香族基团，P各自独立地表示氢原子、碳数1～30的烷基、碳数6～30的芳基、碳数2～20的烯基、碳数2～20的炔基、交联性基团、或解离性基团，R2表示碳数6～10的芳香族取代基、或碳数1～20的烷基，Rx2各自独立地表示氢原子、碳数1～20的烷基、碳数1～20的烷氧基、或卤素，Ry2各自独立地表示氢原子、碳数1～20的烷基、碳数1～20的烷氧基、或卤素，m表示0～4的整数，n表示0～4的整数。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 三菱瓦斯化学株式会社 光刻膜形成用组合物、抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法

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