申请/专利权人：杭州富芯半导体有限公司

申请日：2022-12-02

公开（公告）日：2023-03-21

公开（公告）号：CN115826529A

主分类号：G05B19/418

分类号：G05B19/418

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.04.07#实质审查的生效;2023.03.21#公开

摘要：本申请提供一种真空机台稳定步骤的控制方法，包括：设置钟摆阀所在工艺制程的工艺生产菜单中当前工艺步骤下的初始角度；根据当前工艺步骤的气体流量参数向真空腔室中通入气体，同时使钟摆阀在预设时间内保持初始角度不变；经过预设时间后，真空腔室的压强开始通过类PID算法对钟摆阀角度的控制实现，直至机台确定钟摆阀角度稳定；开始当前工艺步骤的生产步骤。通过在对钟摆阀的角度采用类PID算法控制之前设定预设时间的动延迟，使真空腔室初期压强的波动在该预设时间内得到有效调节，从而真空腔室内的压强在该预设时间内变的相对均匀，然后再通过类PID算法对所述钟摆阀角度进行控制，可有效减少钟摆阀角度的波动次数，从而减少稳定步骤时间。

主权项：1.一种真空机台稳定步骤的控制方法，其特征在于，所述控制方法包括：真空腔室的钟摆阀处于上一工艺步骤最后稳定态时的角度；设置所述钟摆阀所在工艺制程的工艺生产菜单中当前工艺步骤下的初始角度；根据所述当前工艺步骤的气体流量参数向所述真空腔室中通入气体，同时使所述钟摆阀在预设时间内保持所述初始角度不变；经过所述预设时间后，所述真空腔室的压强开始通过类PID算法对所述钟摆阀角度的控制实现，直至机台确定所述钟摆阀角度稳定，也即到达所述真空腔室的稳定压强，当前工艺步骤的稳定步骤结束；开始当前工艺步骤的生产步骤。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 杭州富芯半导体有限公司 真空机台稳定步骤的控制方法

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