申请/专利权人：琳得科株式会社

申请日：2022-08-31

公开（公告）日：2023-03-21

公开（公告）号：CN115820153A

主分类号：C09J7/30

分类号：C09J7/30;C09J7/10;C09J11/04;C09J133/08;C09J163/00;B32B27/36;B32B27/06;B32B7/06;B32B27/00;B32B7/12;B32B33/00

优先权：["20210916 JP 2021-151221"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2023.03.21#公开

摘要：本发明提供一种保护膜形成膜，其为固化性或非固化性的保护膜形成膜，所述保护膜形成膜为固化性时，按照JISL1094:2014测定的所述保护膜形成膜的固化物的最大静电压为1000V以下、且静电压的半衰期为30秒以下，所述保护膜形成膜为非固化性时，按照JISL1094:2014测定的所述保护膜形成膜的最大静电压为1000V以下、且静电压的半衰期为30秒以下。

主权项：1.一种保护膜形成膜，其中，所述保护膜形成膜为固化性时，按照JISL1094:2014测定的所述保护膜形成膜的固化物的最大静电压为1000V以下，且静电压的半衰期为30秒以下，所述保护膜形成膜为非固化性时，按照JISL1094:2014测定的所述保护膜形成膜的最大静电压为1000V以下，且静电压的半衰期为30秒以下。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 琳得科株式会社 保护膜形成膜及保护膜形成用复合片

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