申请/专利权人：苏州苏大维格科技集团股份有限公司

申请日：2022-12-15

公开（公告）日：2023-05-12

公开（公告）号：CN219007400U

主分类号：B41J2/47

分类号：B41J2/47;B41J3/407;B41M5/00;H01L31/18;H01L31/0224

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.05.12#授权

摘要：本实用新型涉及一种激光转印模具和激光转印装置。上述激光转印模具用于制作光伏电池电极，激光转印模具包括：转印衬底，转印衬底的一侧表面具有若干用于填充导电材料的凹槽；以及光学器件，位于转印衬底具有凹槽的另一侧，光学器件具有柱透镜阵列，柱透镜阵列的透镜面朝向或者背向转印衬底，柱透镜阵列在转印衬底方向上的聚焦范围覆盖凹槽。与传统的激光转印模具相比，应用本实用新型上述技术方案的激光转印模具制作光伏电池电极时，柱透镜阵列能够对激光束进行聚焦，大部分能量被凹槽内的导电材料吸收，因此能够提高能量转换效率，在同等激光功率条件下可以同时实现多条光伏电池电极的制作，从而提高生产效率，有利于广泛应用。

主权项：1.一种激光转印模具，用于制作光伏电池电极，其特征在于，所述激光转印模具包括：转印衬底，所述转印衬底的一侧表面具有若干用于填充导电材料的凹槽；以及光学器件，位于所述转印衬底具有凹槽的另一侧，所述光学器件具有柱透镜阵列，所述柱透镜阵列的透镜面朝向或者背向所述转印衬底，所述柱透镜阵列在所述转印衬底方向上的聚焦范围覆盖所述凹槽。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 激光转印模具和激光转印装置

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