申请/专利权人:EEJA株式会社
申请日:2021-08-17
公开(公告)日:2023-05-23
公开(公告)号:CN116157555A
主分类号:C25D3/64
分类号:C25D3/64
优先权:["20200819 JP 2020-139007"]
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2023.06.09#实质审查的生效;2023.05.23#公开
摘要:根据本发明,提供氰系电解银合金镀液,其特征在于,含有:以银换算计为10~100gL的氰化银络合物、5~300gL的导电盐、以锗换算计为0.1~10gL的锗化合物、和1~100gL的配位性高分子添加剂。
主权项:1.氰系电解银合金镀液,其特征在于,含有:以银换算计为10~100gL的氰化银络合物、5~300gL的导电盐、以锗换算计为0.1~10gL的锗化合物、和1~100gL的配位性高分子添加剂。
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