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【发明公布】氰系电解银合金镀液_EEJA株式会社_202180050689.7 

申请/专利权人:EEJA株式会社

申请日:2021-08-17

公开(公告)日:2023-05-23

公开(公告)号:CN116157555A

主分类号:C25D3/64

分类号:C25D3/64

优先权:["20200819 JP 2020-139007"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.06.09#实质审查的生效;2023.05.23#公开

摘要:根据本发明,提供氰系电解银合金镀液,其特征在于,含有:以银换算计为10~100gL的氰化银络合物、5~300gL的导电盐、以锗换算计为0.1~10gL的锗化合物、和1~100gL的配位性高分子添加剂。

主权项:1.氰系电解银合金镀液,其特征在于,含有:以银换算计为10~100gL的氰化银络合物、5~300gL的导电盐、以锗换算计为0.1~10gL的锗化合物、和1~100gL的配位性高分子添加剂。

全文数据:

权利要求:

百度查询: EEJA株式会社 氰系电解银合金镀液

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