申请/专利权人:应用材料公司
申请日:2021-06-28
公开(公告)日:2023-05-23
公开(公告)号:CN116157708A
主分类号:G02B1/00
分类号:G02B1/00
优先权:["20200720 US 63/054,033"]
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2023.06.09#实质审查的生效;2023.05.23#公开
摘要:本公开内容的实施方式涉及具有一个或更多个计量特征的光学装置和光学装置计量的方法以提供计量工具位置识别,而对光学装置的光学性能的影响可忽略不计。光学装置包括一个或更多个目标特征。本文描述的目标特征提供计量工具位置识别,而对光学装置的光学性能的影响可忽略不计。在计量工艺中,目标特征允许计量工具确定具有宏观尺度的表面面积的光学装置的一个或更多个位置。目标特征对应于合并在一起的一个或更多个结构、被已移除的一个或更多个结构环绕的合并在一起的一个或更多个结构、或具有一个或更多个轮廓的已移除的一个或更多个结构,由与目标特征相邻的结构来限定所述一个或更多个轮廓。
主权项:1.一种光学装置,包含:基板;和多个结构,所述多个结构设置于所述光学装置的所述基板的表面上,所述多个结构具有小于一个微米的临界尺寸,所述多个结构包括对应于合并在一起的一个或更多个结构的一个或更多个目标特征,其中一个或更多个目标特征对所述多个结构的比率在约1:100,000与约1:1,000,000,000之间。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 应用材料公司 光学装置和光学装置计量的方法
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