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【发明授权】在机台零件上形成纳米涂层的方法及纳米涂层_长鑫存储技术有限公司_202110805398.6 

申请/专利权人:长鑫存储技术有限公司

申请日:2021-07-16

公开(公告)日:2023-05-23

公开(公告)号:CN113529051B

主分类号:C23C16/27

分类号:C23C16/27;C23C16/34;C23C16/36;C23C16/02

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.05.23#授权;2021.11.09#实质审查的生效;2021.10.22#公开

摘要:本发明提供一种在机台零件上形成纳米涂层的方法,包括:清洁零件表面;提供类金刚石离子束,利用PVD工艺将类金刚石离子束沉积至零件表面,形成第一膜层;提供TiN和CrN离子束,利用PVD工艺将TiN和CrN离子束沉积至第一膜层表面,形成第二膜层;提供TiCN和TiClN离子束,利用PVD工艺将TiCN和TiClN离子束沉积至第二膜层表面,形成第三膜层;第一膜层、第二膜层和第三膜层形成纳米涂层。本发明利用PVD工艺在零件表面依序附着类金刚石的第一膜层、含TiN和CrN的第二膜层和含TiCN和TiClN的第三膜层,形成纳米级的膜层,该膜层密度大,结构紧凑,能够降低杂质颗粒的附着力,同时提高该纳米涂层的耐高温、耐腐蚀性能。

主权项:1.一种在机台零件上形成纳米涂层的方法,其特征在于,包括:清洁零件表面;提供类金刚石离子束,利用PVD工艺将所述类金刚石离子束沉积至所述零件表面,形成第一膜层;提供TiN和CrN离子束,利用PVD工艺将所述TiN和CrN离子束沉积至所述第一膜层表面,形成第二膜层;提供TiCN和TiClN离子束,利用PVD工艺将所述TiCN和TiClN离子束沉积至所述第二膜层表面,形成第三膜层;所述第一膜层、所述第二膜层和所述第三膜层形成所述纳米涂层。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 长鑫存储技术有限公司 在机台零件上形成纳米涂层的方法及纳米涂层

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