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【发明授权】一种碘鎓硼酸盐引发剂、阴图平印版前体及阴图平印版的制备方法_乐凯华光印刷科技有限公司_202011579908.4 

申请/专利权人:乐凯华光印刷科技有限公司

申请日:2020-12-28

公开(公告)日:2023-05-23

公开(公告)号:CN114685698B

主分类号:C08F2/48

分类号:C08F2/48;G03F7/004;G03F7/027;C07F5/02;C07C205/12;C07C25/18;C07C43/225;C07C409/40

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.05.23#授权;2022.07.19#实质审查的生效;2022.07.01#公开

摘要:本发明提供一种碘鎓硼酸盐引发剂、阴图平印版前体及阴图平印版的制备方法,本申请提供的碘鎓硼酸盐引发剂应用于阴图平印版前体,热成像数字速度更快,有着优异的耐印力,同时改善了版材存放结晶问题,曝光成像后图文可视性也有提高。阴图平印版为免处理平印版,在用红外激光扫描曝光后,可以不经过任何冲洗加工步骤直接安装版到印刷机上进行印刷,即该平印版为阴图在机显影型免处理版。

主权项:1.一种碘鎓硼酸盐引发剂,其特征在于:该引发剂为二芳基碘鎓硼酸盐化合物,该化合物含有如下结构: R3、R4在苯环上除R1、R2之外的任何位置;其中R1和R2独立为各自具有2-9个碳原子的取代或未取代的烷基或取代或未取代的烷氧基;R3和R4独立地是卤素、羟基、羧基、氨基、烷基、烷氧基、酯基、硝基等不同于R1和R2的有机基团; 是有机阴离子,是四苯基硼酸阴离子。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 乐凯华光印刷科技有限公司 一种碘鎓硼酸盐引发剂、阴图平印版前体及阴图平印版的制备方法

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