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【发明公布】缓冲器_日立安斯泰莫株式会社_202180059862.X 

申请/专利权人:日立安斯泰莫株式会社

申请日:2021-07-14

公开(公告)日:2023-05-26

公开(公告)号:CN116171356A

主分类号:F16F9/34

分类号:F16F9/34

优先权:["20200729 JP 2020-128097"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.06.13#实质审查的生效;2023.05.26#公开

摘要:该缓冲器具备:第一通路92,所述第一通路92通过活塞21的移动而使工作流体从成为上游侧的室向成为下游侧的室23流出;第一衰减力产生机构41,所述第一衰减力产生机构41设置于第一通路92,产生衰减力;第二通路182,所述第二通路182与第一通路92分开设置;第二衰减力产生机构183,所述第二衰减力产生机构183设置于第二通路182,在活塞速度比第一衰减力产生机构41低时开阀而产生衰减力;第三通路512,所述第三通路512与第二通路182分开设置;体积可变机构186,所述体积可变机构186设置于第三通路512;第四通路521,所述第四通路521与第三通路512分开设置;以及溢流机构522,所述溢流机构522设置于第四通路521,在第二衰减力产生机构183开阀之后开阀。

主权项:1.一种缓冲器,其中,所述缓冲器具备:缸体,所述缸体封入有工作流体;活塞,所述活塞能够滑动地设置在所述缸体内,将该缸体内划分为两个室;活塞杆,所述活塞杆与所述活塞连结并且向所述缸体的外部伸出;第一通路,所述第一通路通过所述活塞的移动使工作流体从成为上游侧的所述室向成为下游侧的所述室流出;第一衰减力产生机构,所述第一衰减力产生机构设置于所述第一通路,产生衰减力;第二通路,所述第二通路与所述第一通路分开设置;第二衰减力产生机构,所述第二衰减力产生机构设置于所述第二通路,与所述第一衰减力产生机构相比,在活塞速度低速时开阀而产生衰减力;第三通路,所述第三通路与所述第二通路分开设置;体积可变机构,所述体积可变机构设置于所述第三通路;第四通路,所述第四通路与所述第三通路分开设置;以及溢流机构,所述溢流机构设置于所述第四通路,在所述第二衰减力产生机构开阀之后开阀。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 日立安斯泰莫株式会社 缓冲器

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