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【发明公布】用于无掩模光刻系统的处理、系统和软件_应用材料公司_202080104622.2 

申请/专利权人:应用材料公司

申请日:2020-07-29

公开(公告)日:2023-05-26

公开(公告)号:CN116171405A

主分类号:G03F7/20

分类号:G03F7/20

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.06.13#实质审查的生效;2023.05.26#公开

摘要:本文提供的系统、方法和软件的实施方式使用由现场可编程门阵列FPGA控制的数字光刻图案化来图案化基板。工作台位置数据从光刻环境提供给FPGA,并且该数据从FPGA加载到存储器中。图形处理单元从存储器中读取该数据并基于该数据计算指令。使用FPGA提供的指令来处理设置在工作台上的基板的至少一部分。

主权项:1.一种图案化基板的方法,包括以下步骤:从光刻系统向现场可编程门阵列FPGA提供数据;将所述数据从所述FPGA加载到存储器中;由图形处理单元GPU计算来自所述存储器中的所述数据;从来自所述GPU的所述数据将指令提供给所述FPGA;和使用由所述FPGA所提供的所述指令来图案化设置在工作台上的基板的至少一部分。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 应用材料公司 用于无掩模光刻系统的处理、系统和软件

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