申请/专利权人：精工爱普生株式会社

申请日：2022-01-28

公开（公告）日：2023-05-26

公开（公告）号：CN114866749B

主分类号：H04N9/31

分类号：H04N9/31

优先权：["20210203 JP 2021-016090"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.05.26#授权;2022.08.23#实质审查的生效;2022.08.05#公开

摘要：设定方法和记录介质。能够简便地进行用于向投射面投射图像的投影仪的设定。使与投影仪10进行通信的信息处理装置20A执行以下的第1处理、第2处理和第3处理。第1处理是取得配置信息的处理。配置信息包含第1信息和第2信息。第1信息表示投影仪10与投射面SC的位置关系。第2信息表示从投影仪10向投射面SC投射的第1图像的大小。第2处理是根据配置信息而从设定数据库DB取得1个或多个设定信息的处理。1个或多个设定信息分别包含用于供投影仪10向投射面SC投射第1图像的多个设定值。第3处理是将1个或多个设定信息中的任意一个设定信息输出到投影仪10的处理。

主权项：1.一种设定方法，包含：取得配置信息，该配置信息包含表示投影仪与投射面的位置关系的第1信息和表示从所述投影仪向所述投射面投射的第1图像的大小的第2信息；根据所述配置信息取得1个或多个设定信息；以及将所述1个或多个设定信息中的任意一个设定信息输出到所述投影仪，所述1个或多个设定信息分别包含用于供所述投影仪向所述投射面投射所述第1图像的多个设定值。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 精工爱普生株式会社 设定方法和记录介质

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