申请/专利权人：北海惠科光电技术有限公司;惠科股份有限公司

申请日：2022-05-12

公开（公告）日：2023-05-26

公开（公告）号：CN114864603B

主分类号：H01L27/12

分类号：H01L27/12

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.05.26#授权;2022.08.23#实质审查的生效;2022.08.05#公开

摘要：本申请提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板。阵列基板的制备方法包括，在基板上形成间隔设置的栅极和信号走线。在基板上形成栅极绝缘层。在栅极绝缘层上形成待处理有源层。在待处理有源层上形成第一光阻层。刻蚀待处理有源层，形成有源层，第一光阻层位于有源层远离栅极绝缘层的一侧。在栅极绝缘层上形成第二光阻层。刻蚀栅极绝缘层，在栅极绝缘层形成通孔，通孔正对信号走线。去除第一光阻层和第二光阻层。在栅极绝缘层上形成源极和漏极，源极和漏极中的一者经通孔连接信号走线。在制备过程中，保留有源层上的第一光阻层，可以后续的制程中，保护有源层，避免有源层氧化或者损坏。保障阵列基板的电学性能，显示面板的显示性能良好。

主权项：1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：在基板上形成间隔设置的栅极和信号走线；在基板上形成栅极绝缘层，所述栅极绝缘层覆盖所述栅极和所述信号走线；在所述栅极绝缘层上形成待处理有源层；在所述待处理有源层上形成待处理第一光阻层，并经过曝光和显影形成第一光阻层；刻蚀所述待处理有源层，形成有源层，所述第一光阻层位于所述有源层远离所述栅极绝缘层的一侧；在所述栅极绝缘层上形成待处理第二光阻层，且所述待处理第二光阻层连接所述第一光阻层；曝光和显影所述待处理第二光阻层，形成第二光阻层；刻蚀所述栅极绝缘层，在所述栅极绝缘层形成通孔，所述通孔正对所述信号走线；去除所述第一光阻层和所述第二光阻层；在所述栅极绝缘层上形成源极和漏极，所述源极和所述漏极中的一者经所述通孔连接所述信号走线。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北海惠科光电技术有限公司;惠科股份有限公司 阵列基板及其制备方法、显示面板

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD