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【发明授权】涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置_东京毅力科创株式会社_202010348387.5 

申请/专利权人:东京毅力科创株式会社

申请日:2020-04-28

公开(公告)日:2023-05-26

公开(公告)号:CN111906003B

主分类号:B05D5/06

分类号:B05D5/06;B05D7/24;G02B5/30

优先权:["20190510 JP 2019-090108"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.05.26#授权;2022.03.01#实质审查的生效;2020.11.10#公开

摘要:本发明提供涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置。该涂敷膜形成方法在基片形成含有液晶性材料的涂敷膜,该方法包括:一边使保持基片的保持部与涂敷部相对地移动,一边从上述涂敷部释放含有上述液晶性材料的涂敷液,在基片涂敷上述涂敷液而形成涂敷膜的步骤;以及之后在使上述液晶性材料的分子取向的拉伸取向区域与调节上述涂敷膜的温度的调温区域的边界,从供气部对上述涂敷膜的表面供给调温气体的步骤。本发明能够在基片涂敷含有液晶性材料的涂敷液,使液晶性材料的分子适当地取向而形成涂敷膜。

主权项:1.一种涂敷膜形成方法,其在基片形成含有液晶性材料的涂敷膜,所述涂敷膜形成方法的特征在于,包括:一边使保持基片的保持部与涂敷部相对地移动,一边从所述涂敷部释放含有所述液晶性材料的涂敷液,在基片涂敷所述涂敷液而形成涂敷膜的步骤;以及之后在使所述液晶性材料的分子取向的拉伸取向区域与调节所述涂敷膜的温度的调温区域的边界,从供气部对所述涂敷膜的表面供给调温气体以使所述涂敷膜液晶化的步骤,将从所述涂敷部至所述供气部的基片移动方向上游侧的区域作为拉伸取向区域,将所述供气部的基片移动方向下游侧的区域作为调温区域,在所述供给调温气体的步骤中,检测所述液晶性材料的分子的取向状态,基于检测结果确定所述边界。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 东京毅力科创株式会社 涂敷膜形成方法和涂敷膜形成装置

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