申请/专利权人：中国科学院光电技术研究所

申请日：2020-06-24

公开（公告）日：2023-05-26

公开（公告）号：CN111704735B

主分类号：C08J5/18

分类号：C08J5/18;C08G73/14;C08L79/08

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.05.26#授权;2020.10.27#实质审查的生效;2020.09.25#公开

摘要：本发明公开了一种超低热膨胀系数高强度聚酰亚胺光学薄膜材料及制备方法，聚酰亚胺光学薄膜材料由芳香族二酐单体，含有酰胺键的芳香族二胺单体以及不含酰胺键二胺单体经缩聚反应形成聚酰胺酸胶液，经旋凃成膜，以及热亚胺化后制得；本发明还公开了该材料的制备方法，制备方法简单，制得的聚酰亚胺薄膜具有超低热膨胀系数、高机械强度、较好的光学透过性及较好的热稳定性；本发明的聚酰亚胺薄膜材料通过旋凃方法获得，可应用于光学薄膜衍射透镜、柔性薄膜太阳能电池、OLED柔性显示基底等领域，具有广泛的应用前景。

主权项：1.一种超低热膨胀系数高强度聚酰亚胺光学薄膜材料，其特征在于：所述聚酰亚胺光学薄膜材料由芳香族二胺和芳香二酐单体在摩尔比为1：0.98-1.02条件下发生缩聚反应形成聚酰胺酸胶液，达到一定分子量后加入链段封端剂控制链段分子量，经旋凃成膜、热亚胺化制得；所述芳香族二酐为3,3',4,4'-联苯四甲酸二酐BPDA与均苯四甲酸酐PMDA中的一种或两种混合；所述芳香二胺为含酰胺键4,4’-二氨基苯酰替苯胺DABA以及不含酰胺键二胺2,2’-二甲基-4,4’-二氨基联苯TMDB；所述封端剂为间苯二甲酸；所述聚酰亚胺光学薄膜材料在-150～100℃的热膨胀系数为-2ppm～5ppm℃；拉伸强度为200～250MPa；玻璃化转变温度为280～380℃；在500～800nm平均透过率为70～80％；该超低热膨胀系数高强度聚酰亚胺光学薄膜材料的制备方法包括如下步骤：在氮气保护下，将含有酰胺键的二胺单体分散在极性非质子溶剂中搅拌溶解，分批次加入二酐单体，二胺单体与二酐单体摩尔比为1：0.98-1.02，反应完成后加入封端剂控制胶液分子量，聚酰胺酸胶液的固含量为7％～10％，在0℃-25℃下搅拌24-48小时得到聚酰胺酸溶液，将聚酰胺酸胶液旋凃在面型较好的石英基板上成膜、经过热亚胺化、去除基材，得到综合性能良好的聚酰亚胺光学薄膜材料；所述缩聚反应的温度为0℃～25℃，缩聚反应时间为24～48小时；所述极性非质子溶剂为N-甲基吡咯烷酮，N,N-二甲基甲酰胺，N,N-二甲基乙酰胺任意一种或者多种以任何比例混合的混合溶剂。

全文数据：

权利要求：

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