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【发明公布】光掩模、曝光方法、树脂图案的制造方法及光掩模的制造方法_富士胶片株式会社_202180055266.4 

申请/专利权人:富士胶片株式会社

申请日:2021-07-07

公开(公告)日:2023-05-30

公开(公告)号:CN116194845A

主分类号:G03F7/20

分类号:G03F7/20

优先权:["20200831 JP 2020-145976"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.06.16#实质审查的生效;2023.05.30#公开

摘要:本发明提供一种光掩模及其应用,上述光掩模包含:透明支承体,具有第1面及与上述第1面相反侧的第2面;及遮光层,配置于上述透明支承体的上述第1面的一部分上,上述第1面的露出部分的表面粗糙度Rz为0.1μm~0.5μm,上述遮光层的表面粗糙度Rz为0.1μm~0.5μm。

主权项:1.一种光掩模,其包含:透明支承体,其具有第1面及与所述第1面相反侧的第2面;及遮光层,其配置于所述透明支承体的所述第1面的一部分上,所述第1面的露出部分的表面粗糙度Rz为0.1μm~0.5μm,所述遮光层的表面粗糙度Rz为0.1μm~0.5μm。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 富士胶片株式会社 光掩模、曝光方法、树脂图案的制造方法及光掩模的制造方法

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